Устройство для формирования опорной линии

СООЗ СОВЕТСКИХсцивлдъ есиижРЕаЪБ ЛИК(О а БРЕТЕН И ТЕЛЬСТ 24-1 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТДО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМГ 1 РИ ГКНТ СССР ОПИСАН И ВТОРСКОМУ Сви(71) Научно-исследовательский институт прикладной геодезии(56) Авторское свидетельство СССР В 1283530, кл. С О С 9/06, 15.01.87.Авторское свидетельство СССР В 1394194, кл. Г 02 В 27/20, 27,06.88. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ ОПОРНОЙ ЛИНИИ(57) Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано при контроле профилей различных объектов в машиностроении, геодезии, самолетостроении, судостроении или при прокладке тоннелей. Уст" ройство содержит лазер 1 и дифракци 2онкую решетку 2, расположенную на оптической оси 3 лазера 1 и ориентированную перпендикулярно плоскости, про ходящей через эту ось и центр 0 Формируемой опорной линии 4. При этом штрихи решетки 2 параллельны этой плоскости и составляют с осью 3 угол с(, тангенс: которого равен отношению заданного радиуса Е кривизны формируемой опорной линии 4 к расстоянию Е от решетки 2 до заданной плоскости Формирования линии 4 вдоль оси 3. Благодаря такому выполнению рас- . ширяются, Функциональные воэможности устройства путем Формирования опорной линии с произвольным радиусом К кривизны. При выполнении решетки на частично отражающей подложке Формируется линия замкнутого контура, 1 з.п.ф-лы, 2 ил.Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано при контроле профилей различных объектов в машиностроении, геодезии, самолетостроении, судостроении или при прокладке тоннелей.Пель изобретения - расширениеФункциональных Возможностей путем ФорМирования опорной линии с произвольным радиусом кривизны, а также Форьррование опорной линии замкнутогоконтура,На Фиг, 1 представлена схема устройства и ход лучей в нем, на Фиг.2 то же, при выполнении решетки на частично отражающей подложке,Устройство содержит лазер 1 и дифракционную решетку 2, расположеннуюна оптической оси 3 лазера 1 и ориентированную перпендикулярно плоскоСти, проходящей через эту ось и центрО Формируемой опорной линии 4, Приэтом штрихи решетки 2 параллельны,Этой плоскости и составляют с осью 3 25угол с, определяемый нз соотношенияВеа (= -с (1)11где К - заданный радиус кривизныФормируемой опорной линии 4, 30Ь - расстояние от решетки 2 дозаданной плоскости Формирования линии 4 вдоль оси 3.Решетка 2 может быть выполнена начастично отражающей подложке (фиг,2)Устройство работает следующим образом.Результирующие дифракционные мак.симумы формируются на пересечении окружности с прямыми и образует опор.ную кривую линию 4 в,виде дуги окружности радиусомК,= Ь СрЫ. (2)Данная линия высвечивается на конт ролнруемои объекте 5 в виде дискретных световых точек, соответствующих максимумам дифракции. Контроль прогиля объекта 5 может производиться визуалвно или автоматически. В последнем случае на объекте в точках дифракционных максимумов должны быть установлены позиционно-чувствительные Фотоприемники, связанные с объектом и подключенные к системе обработки данных. В соответствии с выражением (2) радиус дуги К может быть установлен путем выбора соответствующего угла 1 наклона решетки 2 и расстояния Ь может лежать в пределах от нуля до бесконечности.При необходимости объект 5 может быть наклонен в плоскости ОЕ, при этом Формируется дуга эллипса, причем максимальная величина дуги (Фиг.1) может доходить до половины окружности (эллипса).Кроме того, возможно формирование линии замкнутого контура - эллипса или окружности (фиг.2). Для этого решетка 2 должна быть выполнена на частично отражающей подложке. При этом наряду с максимумами прошедшего светового пучка появляются максимумы отраженного пучка причем отраженные максимумы Формируются точно таким же образом, как описанные проходящие максимумы, и располагаются симметрично к ним относительно плоскости, проходящей через плоскость решетки 2. Прошедпие максимумы формируют половину дуги окружности (или эллипса), а отраженные максимумы - дугу окружности или эллипса), дополняющую первую дугу до замкнутого контура, повторяющего Форму объекта 5.Для изменения степени эллиптич- ности формируемого контура опт.ект можФ но наклонять в ту или другую сторону. в плоскости ОЕ, Лри установке объекта 5 перпендикулярно плоскости решетки 2 Формируемьй замкнутый контур практически совпадает с окружностью. Формула изобретенияУс гройство для Формирования опорной линии, содержашее лазер н дифракционную решетку, расположенную на оп гической оси лазера, о т л и ч а ющ е е с я тем, что, с целью расширения функциональных возможнос гей за счет Формирования опорной линии с произвольным радиусом кривизны, дифракционная решетка ориентирована перпендикулярно плоскости, проходящей через оптическую ось лазера и центр формируемой опорной линии, а штрихи решетки параллельны этой плоскости н составляют с оптической осью лазера угол с, определяемый из соотношенияК е м= -Ь где К - заданный радиус кривизны фор. мируемой опорной линии; расстояние от решетки до за5 1569766 6данной плоскости формирова- ч а ю щ е е с я, тем что с цельния опорной линии вдоль опти- формирования опорной линии замкнуточеской оси лазера. го контура, решетка вьатолнена на 2. Устройство по и, 1, о т л и - частично отражающей подложке. Составитель В. Кравченко Редактор И, Дербак Техред Л.Сердюкова Корректор Т.Палий еПодписно аказ 1447 Тираж 465НИИПИ Государственного комитета по изобретения113035, Иосква, Ж,.Раушская ГКНТ СССР и открытиям праб., д, 4/5 оиэводственно-издательский комбинат " ент", г.ужгород, ул. Гагарина,