Система управления процессом нагрева при диффузионном формировании многослойных полупроводниковых структур

Номер патента: 1562892

Авторы: Гранковский, Зинченко, Минаков, Падалко, Сергеев

ZIP архив

Текст

Изобретение относится к автоматическому контролю и управлению в электронной и электротехнической промьпдленности и может бьггь использованодля управления процессом нагрева в трубчатых электропечах при изготовлении многослойных полупроводниковых структур по диффузионной технологии.Целью изобретения является повыше йие точности системы.На чертеже представлена блок-схема системы управления.Система содержит трубчатую печь 1 с секциями электронагревателей 2 - 4, распределенными равномерно вдоль муфеля 5 печи, в котором помещена лодочка с обрабатываемыми пластинами 6, термоэлектрические преобразователи 7 - 9, блоки 10 и 11 сравнения, регу ляторы 12 и 13 температуры, тиристорные блоки 14 и 15, инерционное звено 16, блок 17 вычисления коэфФициента диффузии, интегратор 18, блок 19 сравнения, задатчик 20 глубины диффу вии, ключ 21, регулятор 22 температуры, программный задатчик 23 температуры, тиристорный блок 24.Система работает следующим образом. ЗОВ соответствии с программой нагрева в печи, задаваемой задатчиком 23, регулятор 22 устанавливает мощность нагрева в центральном нагревателе 3, При отклонении температуР в кРайних зонах нагревателей 2 и 4 от температуры в центральной зоне, контролируе-мом дифференциально связанными термонреобразователями- 9, в устройствах 10 и 11 сравнения формируются 40 сигналы рассогласования, которые "подаются соответственно на регуляторы температуры 12 и 13. Б зависимости от реализованных законов регулирования регуляторы 12 и 13 через соответ ствующие тиристорные блоки 14 и 15 изменяют напряжение, подводимое к нагревателям 2 и 4. Таким образом обеспечивается плоский профиль температуры по длине печи.Фактическое значение температуры в центральной реакционной зоне преобразуется термопреобразователем 9 в соответствующий сигнал и через инерционное звено 16, имитирующее запаздывание в передаче тепла от нагревателей через муфель к изделию, подается на вычислительный блок 17, осуществляющий расчет текущего значения,коэффициента диффузии в зависимостиот температуры Т и введенных постоянных По и Е, характеризующих диффузант. Блок 18 интегрирования, работающий в реальном масытабе времени, выдает на блок 19 сравнения текущеезначение глубины диффузии. При достижении заданной глубины, устанавливаемой задатчиком 20, с блока 19 сравнения подается сигнал на ключ 21, который переключает программный задатчик23 температуры на снижение температуры печи. Таким образом, возможные самопроизвольные изменения температурыв печи учитываются путем изменениявремени нагрева, корректированияпрограммы нагрева,Система позволяет обеспечить требуемую глубину диффузии примесей приполучении многослойных полупроводниковых структур и в связи с этим повысить процент выхода годных приборов,Формула из обретенияСистема управления процессом нагрева при диффузионном формировании многослойных полупроводниковых структур, содержащая трубчатую печь, первую, вторую и третью секции электронагревателей, причем первая, третья и вторая секции электронагревателей расположены равномерно вдоль трубчатой печи, входы первого, второго и третьего электронагревателей подключены к выходам соответственно перво" го, второго и третьего тиристорных блоков, силовые входы которых подключены соответственно к первой, второй и третьей шинам питания, а управляющие входы - соответственно к выходам первого, второго и третьего регуляторов температуры, первая, вторая и третья секции электронагревателей содержат, соответственно первый, второй и третий термоэлектропреобразова" тели, выходы первого и второго термоэлектропреобразователей соединены с первыми входами соответственно первого и второго блоков сравнения, выходы котбрых подключены к входам соответственно первого и второго регуляторов, а вторые входы - к выходу третьего термоэлектропреобразователя, кроме того, система содержит программный задатчик температуры и третий блок сравнения, о т л и ч а ю щ а яс я тем, что, с целью повышения точ"Составитель Е. ВласовРедактор И.Булла Техред, М.Ходанич Корректор Э.Лончакова Тираж 657 Заказ 1064 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб;, д. 4/5Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, ул. Гагарина,103 5 1562892. 6 ности системы, в нее введены интегра- интегратор к первому входу третьего тор, инерционное звено, задатчик глу- блока сравнения, второй вход которого бины диффузии, блок вычисления коэф" соединен с выходом задатчика глубины фициента диффузии и ключ, причем вы- диффузии, а выход - с управлякщим ход третьеао термоэлектропреобразова входом ключа, выход которого подклютеля подключен к входу инерционного чен к входу третьего регулятора, а звена, подключенного выходом к входу информационный вход ключа подключен блока вычисления коэффициента диффу- к выходу прогРаммного задатчика темзии, выход которого подключен через пературы.

Смотреть

Заявка

4376225, 08.02.1988

ЗАПОРОЖСКИЙ ИНДУСТРИАЛЬНЫЙ ИНСТИТУТ

ЗИНЧЕНКО ЮРИЙ МИТРОФАНОВИЧ, ГРАНКОВСКИЙ ВАДИМ ИВАНОВИЧ, МИНАКОВ НИКОЛАЙ СТАНИСЛАВОВИЧ, ПАДАЛКО АНАТОЛИЙ ВАСИЛЬЕВИЧ, СЕРГЕЕВ ВАЛЕНТИН ВАСИЛЬЕВИЧ

МПК / Метки

МПК: G05D 23/19

Метки: диффузионном, многослойных, нагрева, полупроводниковых, процессом, структур, формировании

Опубликовано: 07.05.1990

Код ссылки

<a href="https://patents.su/3-1562892-sistema-upravleniya-processom-nagreva-pri-diffuzionnom-formirovanii-mnogoslojjnykh-poluprovodnikovykh-struktur.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Система управления процессом нагрева при диффузионном формировании многослойных полупроводниковых структур</a>

Похожие патенты