Способ регулирования процесса электрохимической обработки

Номер патента: 1547981

Автор: Елагин

ZIP архив

Текст

Н 73 И;,; Б.:;",АНИЕ ИЗОБРЕТЕН ния процесса ЭХалых зазорах чет использ ньп институ етра регулировальсов технологиз ссе электрохими тролируют скважологического тоСР 85 тел ьств Н 7/32 Ри упругих отвоумента от детали А АНИЯ ПРАБОТКИ ботки, сраве с установм скважнои о ач чен машиноерной (ЭХО) де вышение тся одов,е эл и разотке ажнос если текущее зн ач ен менье его эталонно о значени ил а ия зна- аются шном чени в аи щ зна Это овыхся МЭвибр услови электрции ЭИ ды отв батыв а ли ления,ненадежным лает эту амплитуд мпульсов ых велич Форах ет, что сущестскважности отнри МЭЗ а 1,2, При МЭЗ ся до 1,7. При велич0,3 мм01 мм ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМПРИ П.НТ СССР АВТОРСКОМ,Ф СВИДЕТЕЛЬСТВУ.(57) Изобретение отнстроению, в частностэлектрохимической обталей, Цель изобретен Изобретение относится к машиностроению, в частости к электрохимическим методам формирования поверхностей деталей,Цель изобретения - повьппение надежности регулирования процесса электрохимической обработки (ЭХО),На фиг.показана зависимость амплитуды отводов электрода-инструмента(ЭИ) от величины межэлектродного зазора (МЭЗ); на фиг. 2 - скважностьимпульсов технологического тока и амплитуда отводов ЭИ на различных стадиях процесса при МЭЗ, равном 0,05,0,1 и более 0,3 мм; на фиг, 3 - зависимость спажости импульсов тока отвеличиньМЭЗ.Амплитуда упругих токов ЭИ стабильна при работе на зазорах более0,1 мм (фиг, 1), При переходе на финадежности регулиро импульсным током на (0,030,08 мм) за ния в качестве пара ния скважности импу ческого тока, В про ческой обработки ко ность импульсов тех ка, формирующихся дах электрода-инстр под действием усили нивают ее текущее з ленным эталонным зн сти и выполняют сбл этапе обработки к меньни МЭЗ (менее 0,1 мм) наблю ые всплески амплитуды, п по величине установившее е этой амплитуды (фиг. 2 исходит из-за неодинакпромывки сокращакппего литом в каждом циклеТакая нестабильность ам дов ЭИ приводит к ложным ниям аппаратуры управ аметром для оценкиАнализ скважности иующихся при различи(фиг. 2), показыват зависимость этойины МЭЗ. Напримерскважность равона увеличивает,ОЗ 0,05 мм скважность Формирующихсяпульсов составляет 5, Такаязавиимость приведена на фиг. 3 и может ыть объяснена следующим, При относительно больших МЭЗ (более 0;4 мм) условия удаления продуктов электролиза достаточно хорошие, Вытеснение образующихся газов происходит через бокоВые зазоры беспрепятственно и давления этих газов недостаточно для отводов ЭИ. Отводов поэтому не происходит, технологический ток не прерывается и реализуется схема ЭХО постоянным током со скважностью, равной 1. 15При сокращении МЭЗ для повышения точности в конце обработки выход из МЭЗ образующихся газов через боковые зазоры затрудняется, что приводит к увеличению давления в,МЭЗ образующих ся газов. Это сопровождается отводами ЭИ от детали с одновременным отключением технологического тока, Формируются импульсы тока и реализуется схема импульсной ЭХО с вибрацией ЭИ. 15 При этом каждому значению МЭЗ.соответствует свой объем электролита, заключенный в межэлектродном пространстве и, следовательно, свои условия для образования отжимающих усилий, дейст вуюших на ЭИ. Так, сокращение МЭЗ приводит к увеличению скважности и наоборот. Причем случайные всплески амплитуды отводов ЭИ никак не сказываются на скважности импульсов, так35 как они происходят в паузах между этими импульсами. Это повышает надежность регулирования процесса,гСкважность импульсов контролирует 40 ся или по среднему напряжению этих импульсов, что легко регистрируется аппаратурой, или по осциллограФу и т,п,.П р и м е р, Электрохимической обработке подвергается штамп с гравюрой плошадью 95 см . Материал штампа - сталь 5 ХНВ. Глубина гравюры штампа 35 мм. Электролит имеет 123 ИаМО+ ф 107. НаС 1. Давление электролита на50 входе в МЭЗ 2 10Па. Начальный МЭЗ выставляется порядка О, 4 О, 5 мм.Включается подача электролита и источник питания, автономно управляемый от внешнего коммутатора-прерывателя, ЭИ подводится к детали со ско 55 ростью анодного растворения, примерно 0,60,8 мм/мин, - Технологическое напряжение составляет 12 В, При этом1 отводы детали отсутствуют, так как для этого недостаточно давления образующихся газов, которые беспрепятственно вытесняются через боковые зазоры,К концу обработки, по мере сокращения оставшегося припуска, необходимо повысить точность копирования Формы ЭИ. Для этого ускорением подачи ЭИ сокращается МЭЗ. Начинаются отводы ЭИ от детали с одновременным пре-. рыванием напряжения, поступающего от источника, с помощью коммутатора. Формируются импульсы с определенной скважностью, Например, при ИЭЗ 0,1 мм скважность составляет 1,7Среднее напряжение, наблюдаемое по вольтметру источника, начинает падать до 87 В. При необходимости поддержать этот зазор некоторое время, поддерживается среднее напряжение не ниже 7 В, что соответствует скважности импульсов 1,7 и величине МЭЗ 0,1 мм. При достижении глубины обработки34,5 мм производится переход на калиброванный режим обработки, Для этого МЭЗ сокращается далее ускорениемрабочей подачи до тех пор, покаскважность импульсов не достигнет 5,что соответствует величине МЭЗ0,05 мм.Вновь установленная величинаскважности принимается как эталонная,на которую настраивается аппаратурауправления Подача ЭИ прекращается иосуществляется обработка импульснымтоком на МЭЗ, равном 0,05 мм. По мере анодного растворения детали ИЭЗувеличивается, что сопровождаетсяуменьшением скважности импульсов иувеличением их среднего напряжения,Это увеличение регистрируется системой управления, которая включает подачу ЭИ и корректирует величину МЭЗ(сближает электроды) до первоначального значения, Таким образом, процессрегулируется автоматически по отклонению скважности от ее установленного эталонного значения, При достижении глубины обработки 35 мм станокотключается и обработка считается законченной,Способ позволяет повысить надежность регулирования процесса электрохимической обработки импульсным током на малых, порядка 0,03..0,08 мм,за.зорах за счет использования в каче-.чения,0,20 О,Ю 5 154 стве параметра регулирования скважности импульсов технологического тока. Формула изобретенияСпособ регулирования процесса электрохимической обработки с синхронным отключением технологического тока при упругих отводах электрода- инструмента от детали под действием усилий обработки и его возвратам под действием упругих сил в паузах между . 7981 6формируюшимися импульсами технологи- ческого тока, о т л и ч а ю ш и й - с я тем, что, с целью повышения на дежности регулирования, контролируют скважность импульсов технологического тока, сравнивают ее текушее значение с установленным эталонным значением скважности и выполняют сближение электродов, если текушее значение скважности меньше его эталонного зна

Смотреть

Заявка

4450080, 29.06.1988

УФИМСКИЙ АВИАЦИОННЫЙ ИНСТИТУТ ИМ. СЕРГО ОРДЖОНИКИДЗЕ

ЕЛАГИН ЕВГЕНИЙ ФЕДОРОВИЧ

МПК / Метки

МПК: B23H 7/32

Метки: процесса, электрохимической

Опубликовано: 07.03.1990

Код ссылки

<a href="https://patents.su/3-1547981-sposob-regulirovaniya-processa-ehlektrokhimicheskojj-obrabotki.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ регулирования процесса электрохимической обработки</a>

Похожие патенты