Теневая маска для цветного кинескопа

"РЕСПУБЛИН 4(5) Н 01 д 29/О ПАТЕНТ ий и выполненная тво отвер ами, парал аски, о орон ои и лельными тем, что, ва изображ технологии сокращениямеров отвевыполнены стью измлны от цМаскс я 2.а язатух ДЛЯ ЦВЕТ-.я множеск 3. чаю иены с(: за ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ ССПО ЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ ИО Д ТНРЫТИЙПИСАНИЕ ИЗОБР(54)(57) 1. ТЕНЕВАЯ МАСКАНОГО КИНЕСКОПА, содержаща 801145942 А тли чающая ся с целью повышения качестения маски и упрощения ее изготовления за счет диапазона изменения разрстий в маске, гофры с затухающей интенсивенения огибающей линии ентра маски к ее периферии а по п. 1,.о т л и ч а ютем, что гофры выполнены ей амплитудой волны.а по пп. 1 и 2, о т л ия с я тем, что гофрывыпол ухающей частотой во45 Изобретение относится к телевизионной технике и.может быть использованов цветных кинескопах, в которых используется теневая маска.Известны теневые маски для цветных кинескопов, содержащие множество отверстий. Сходящиеся электронные лучи проецируются через многоапер.турную теневую маску.на мозаичныйэкран. Пути прохождения лучей таковы, 0что каждый ив них возбуждает толькоодин вид цветоизлучающего люминофора .на экране, Теневая маска прикреплена к жесткойрамке, которая, в своюочередь, крепится к баллону кинескопа. Известные маски выполняютсяпрактически плоскими или по формеэкрана 1 1,Однако такая маска имеет недостаточную самоудерживающую прочность 20Мили жесткость, Одним из способовобеспечения такой прочности или жесткости является помещение маски подмеханическое напряжение, Иетодымеханического напряжения, связаны .25с нежелательными большими расходамина рамы.Наиболее близким к изобретениюявляется теневая маска, содержащаямножество отверстий и выполненная 30с гофрами, параллельными одной изсторон маски 2 .Однако правильная волнистаяформа с преимущественно синусоидальным поперечным сечением может оказаться неоптимальным контуром. На"пример, в кинескопе, имеющем волнистую маску, зазор между двумя апертурами и ширина апертуры меняется вфункции зазора между маской и экранрм и относительного угла, образованного электронным лучем и маской.Требуемое изменение ширины аперту-.ры создает дополнительные проблемы травления апертур до получениямаски, что усложняет технологию,изготовления или не позволяет получить высокого качества изображения,Поскольку требуемые колебания являются максимальными на краях маски, 50необходимо или уменьшить колебаниямежду маской.и экраном или уменьащть угол луч-маски на этих краях.Целью изобретения являетея повышение качества изображения и упрощение технологии изготовления засчет сокращениядиапазона изменения размеров отверстий в маске,Указанная цель достигается тем,что в теневой маске для цветногокинескопа, содержащей множествоотверстий и выполненной с гофрами,параллельными одной из сторон маски, гофры выполнены с затухающейинтенсивностью изменения огибающейлинии волны от центра маскик еепериферии.Затухающими могут быть такжеили амплитуда, или частоты волны,На фиг. 1 схематически показанцветной кинескоп .с таневой маской;на фиг, 2 - 4 варианты выполнениягофрированной маски.Цветной кинескоп (фиг. 1) содержит вакуумированную стекляннуюколбу 1 с прямоугольным плоскимэкраном 2, раструбом 3 и горловиной4. Трехцветный люминесцентный экранзакреплен:.на внутренней поверхности5 панели экрана. Блок 6 электронныхпушек, размещенный в горловине 4,содержит три электронные пушки:по одной на каждый из трех фосфоресцирующих слоев на экране 2. В колбе1, рядом с экраном 2, расположенатеневая маска 7 с прямоугольными отверстиями,Апертурная маска 7 имеет гофрированную форму, искривленную вдольгоризонтальной оси, и большое количество удлиненных отверстий, расположенных параллельными вертикальными столбцами, Зазор между столбцами меняется в соответствии с размерами зазора между маской и экраномс тем чтобы фосфоресцирующие элементы на экране располагались равномерно относительно друг друга.Изобретение усовершенствует кон-,струкцию маски, имеющей гофрированную форму, путем обеспечения изменений амплитуды и/или частоты волныгофров.1 В варианте изобретения, представленном на фиг, 2, амплитуда волныф в маске 7 уменьшается от центра маски к ее краю. Такую конфигурацию маски можно использовать в тех случаях, когда требования жесткости, предъявляемые к краям маски, меньше, чем в ее центре. Например, бока маски можно жестко удерживать с помощью прочной или гибкой, динамической жесткой рамки, тем самым снижая необходимость в амплитуде. гофриро1214/46 Тираж ВНИИПИ Государственного по делам изобретений 113035, Москва, Ж, Раушака 79омитета СССоткрытийкая наб., д Подпис иал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 3 11 вания с целью получения статистической и динамической жесткости.Сглаживание формы волны маски около двух боковых краев снижает требования, предъявляемые к зазорам между апертурами и к ширине апертуры. Например, угол падения электронного луча к какому-либо участку волнистой маски, проходящему от луча, может быть очень узким. Из-за этого,. отверстия должны быть разделены еще большим зазором, но этот зазор в одних местах маски должен быть шире, чем в других, где он в большей степени перпендикулярен относительно луча. Из-за этих изменений допуски, которых следует придерживаться при фотографировании, необходимом при изготовлении маски, и допуски, необходимые для оборудования травле 4ния, становятся более жесткими. Сглаживание волнистой формы волны уменьшает колебания угла паДения луч-маски и, следовательно, уменьшает критичность допусков при фотолитографии и травлении Аналогичных преимуществ можнотакже добиться при,затухании час О тоты волны гофров от центра к краяммаски (фиг. 3), в которой такоеувеличение длины волны сглаживаетволнистый контур маски также и украев. Комбинированная форма волныпоказана на примере маски 7 на фиг.4где за счет сокращения диапазонаизменения требуемых размеров отверстий повышается технологичность ееконструкции и качество изображениячерез отверстия маски.