Способ вторичного охлаждения непрерывного слитка-швеллера

Союз Советских Социайистических РЕСНУбПИКОП ИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВ ЕТЕЛЬСТВУ(51)М. Кл.з В 22 Р 11/00 Государствеииый комитет СССР по мдам изооретений и открытий(53) УДК 621. 746, .047(088,8) Дата опубликования описания 15,1081 Ф.М.Мурасов, В.Е.Гирский, И.Е.Косматенко и Б.И.Сахнов(54) СПОСОБ ВТОРИЧНОГО ОХЛАЖДЕНИЯ НЕПРЕРЫВНОГОСЛИТКА в ШВЕЛЛЕ Изобретение относится к литейному производству, точнее к непрерывному литью металла, и предназначено преимущественно для производства стальных слитков-швеллеров, используемых в качестве расходуемых электродов при электрошлаковом переплаве металла.Известен способ вторичного охлаждения непрерывного слитка-швеллера, предусматривающий подачу распыленной воды на участки его поверхности, Согласно этому способу на внутренние поверхности стенки и полок слитка- швеллера на участке его, примыкаю щем к кристаллизатору и равном по протяженности 0,6-0,75 глубины литейной лунки, воду подают с расходом, равным расходу воды, подаваемой на внешнюю поверхность стенки слит ка-швеллера. На последующем участке зоны вторичного охлаждения производят лишь воздушное охлаждение поверхностей слитка-швеллера.Полученный слиток-швеллера по дан ному способу имеет кривизну по длине до 4-6 мм на 1 пог,м. Это связано с тем, что в известном способе разница температур поверхности слитка- швеллера в районе внутренних поверхно 30 стей стенки и полок слитка-швеллера и внешней поверхности его стенки уменьшается до 120-150 С. Однако при этой разнице температур брак слитков- швеллеров составляет 5,5-6,5.Цель изобретения - уменьшение деформации непрерывного слитка-швеллера.Для достижения поставленной цели на внутренние поверхности стенок и полок слитка-швеллера на участке его, примыкающем к кристаллизатору и равным по протяженности 0,3-0,5 глубины литейной лунки, воду подают с расходом, равным 0,7-0,9 расхода воды, подаваемой на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера, а на последующий участок протяженностью 0,2- 0,4 глубины литейной лунки воду подают только на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера.Подача воды форсунками с отношением расхода ее на внутренние поверхности стенки и полок слитка-швеллера к расходу воды на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера равным 0,7-0,9, на участке, примыкающем к кристаллизатору и равном по протяженности 0,3-0,5 глубины литейной лун" ки, обеспечивает уменьшение деформа872012 Формула изобретения Составитель Е,Гендлина Техред А.Ач Корректор Г.Решетник Редактор А,Долинич Заказ 8885/14 Тираж 872 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/5 Филиал ППП Патент, г.ужгород, ул,Проектная, 4 ции слитка за счет того, что притаком охлаждении разница температурповерхности слитка-швеллера со стороны внутренних поверхностей стенкии полок слитка-швеллера и внешнейповерхности стенки слитка-швеллера 5не превышает 30-50 С, что приводитк уменьшению деформации (кривизнапо длине слитка-швеллера уменьшаетсядо 3 мм на 1 пог, м). Подача воды форсунками на после- О дующем участке протяженностью 0,2- 0,4 глубины литейной лунки только на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера обеспечивает стабилизацию процесса деформации (кривизна 15 по длине слитка-швеллера остается на достигнутом уровне). В случае подачи воды форсунками на последующий участок протяженностью меньше 0,2 или больше 0,4 глубины литейной лунки на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера приводит к недопустимому увеличению кривизны по длине его. (Кривизна по длине слитка-швеллера увеличивается до 5-10 мм на1 пог.м.предлагаемый способ вторичного охлаждения непрерывного слитка-швеллера (оптимальный вариант) осушествляют применительно к разливке стали марки 38 ХНЗМФА в слиток-швеллер,вы- Эц сота которого 500 мм, толщина стенки 120 мм, а ширина и толщина полок 175 и 3 0 мм соответственно. Скорость вытягивания слитка-швеллера из кристаллизатора составляет 0,6 мм/мин. 35По расчетным и опытным данным глубина литейной лунки составляет в этом случае 3,6 м. На участке вторичного охлаждения протяженностью 1400 мм ( 0,4 глубины литейной лунки), примыкающем к кристаллизатору, воду подают форсунками на внутренние поверхности стенки и полок слитка-швеллера с расходом воды, равном 0,16 л/кг стали, на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера 0,2 л/кг, что приво дит к уменьшению разницы температур слитка-швеллера на указанных поверхностях, а на следующий участок, протяженностью 1200 мм (0,33 глубины литейной лунки), воду подают только на внешнюю поверхность стенки слитка- швеллера с расходом воды 0,33 л/кг стали, что обеспечивает стабилизацию процесса деформации.Предлагаемый способ опробован при 55 разливке 1400 т высоколегированной стали 38 ХНЗМФА в слиток-швеллер с укаэанными параметрами.Опробованы способы вторичного охлаждения непрерывного слитка-швеллера, при которых на внутренние поверхности стенки и полок слитка-швеллера на участке его, примыкающем к кристаллиэатору и равном по протяженности 1080 и 1800 мм (0,3-0,5 глубины литейной лунки), воду подают с расходом, равным 0,14-0,18 л/кг стали, что составляет отношение этого расхода воды к расходу воды, подаваемой на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера, равное 0,7-0,9, Результаты опробования показывают, чтс кривизна по длине слитка-швеллера не превышает 3 мм на 1 пог.м.Опробованы также способы вторичного охлаждения, при которых на внутренние поверхности стенки и полок сли-. - ка-швеллера на участке его, примыкающем к кристаллизатору воду подают с расходом больше 0,9 и меньше 0,7 расхода воды, подаваемой на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера (т.е. с расходом, выходящим за з "вляемые пределы) .Результаты опробования псказыв-:-. ют, что кривизна по длине с,".иткашвеллера составляет в этом слу.ае 5-10 мм на 1 пог.м.Применение предлагаемого :пссоба позволяет уменьшить деФорма ию слитка-швеллера и за счет э гога сяи зить брак слитков-швеллероз с 5,5- 6,5 до 1-3 Ъ в зависимости от маркисали. Способ вторичного охлаждения непрерывного слитка-швеллера, предусматривающий подачу распыленной во"ды на участке его поверхности, с тл и ч а ю щ и й с я тем, что, сцелью уменьшения деформации слитка,на внутренние поверхности стенки иполок слитка-швеллера на участке его,примыкающем к кристаллизатору и равном по протяженности 0,3-0,5 глубины литейной лунки, воду подают с расходом, равным 0,7-0,9 расхода воды,подаваемой на внешнюю поверхностьстенки слитка-швеллера, а на последующий участок протяженностью 0,20,4 глубины литейной лунки воду подают только на внешнюю поверхностьстенки слитка-швеллера,