Устройство для электронно-лучевой обработки
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 742076
Авторы: Маркелов, Пономарева
Текст
ОПИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советских Социалистических Республик(22) Заявлено 050179 (21) 2733209/25-27с присоединением заявки Мо(51)М. Кл. В 23 К 15/00 Государственный комитет,СССР по делам изобретений и открытий(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЛУЧЕВОЙ ОБРАБОТКИФормула изобретения Известно устройство для электроннолучевой обработки с отклонениемэлектронного луча по изогнутой траектории на 90 о и более, содержащее магнитопровод, электромагнитную катушкуи две пары полюсных наконечников,расположенных в определенном порядкеи закрепленных неподвижно 1),Цель изобретения - расширить технологические розможности за счетобеспечения регулирования угла отклонения и степени фокусировки электронного луча.Это достигается тем что пары поР15люсных наконечников закреплены намагнитопроводе шарнирно с возможностью их взаимного углового перемещения.На фиг. 1 показана фронтальнаяпроекция предлагаемого устройства;на фиг. 2 - то же, план. Устройство состоит из магнитопровода 1, закрепленного на кронштейнах 2, электромагнитной катушки 3 25 и двух пар полюсных наконечников 4 и 5, шарнирно закрепленных на магнитопроводе 1 с возможностью взаимного углового перемещения. Смещая пары полюсных наконечников 5 и 4, изме няют угол сС между ними и, следовательно, угол Р падения электронного луча 6 на деталь 7, который может регулироваться в пределах от 45 до 180 о и больше. Изменением значения тока в катушке 3 добиваются необходимой фокусировки электронного луча на мишени (см. фиг. 1).Устройство работает следующим образом, При пропускании электрического тока через катушку 3 между полюс- ными наконечниками каждой пары 5 и 4 возникают магнитные поля. Направление магнитных полей одинаково, зависит от направления тока в катушке и выбирается таким,чтобы электронный луч б отклонялся в сторону полюсных наконечников. Отклоненный электронный луч попадает в. магнитное поле пары наконечников 5, взаимодействуя с ним, отклоняется в сторону пары наконечников 4, затем попадает в магнитное поле пары наконечников 4, снова отклоняется и направляется на деталь 7 (см. фиг. 2). Устройство для электроннолучевойобработки, содержащее отклоняющую742076 МельниковКоррек оставитель Вехред И.Аст П Народная е аж 1160 Подпис Государственного комитета ССС елам изобретений и открытиЯ сква, Ж, Раушская наб., д. е Ти ИПИ63/1 ак 13035,лиал ППП Патентф, г. Ужгород, ул. Проект систему, состоящую из магнитопроводас расположенными на нем электромагнитной катушкой и двумя парами полюсных наконечников, о т л и ч а ющ е е с я тем, что, с целью расширения технологических воэможностей засчет. обеспечения регулирования углаотклонения и степени фокусировки электронного луча, пары полюсных наконечников закреплены на магнитопроводе шарнирно с воэможностью ихвзаимного углового перемещения.Источники информации,.при",.ятые во внимание прн экспертизе1. Патент ФРГ У 2206995,кл. Н 05 В 7/00, 1976,
СмотретьЗаявка
2733209, 05.01.1979
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ А-7697
МАРКЕЛОВ ВЛАДИМИР ВЛАДИМИРОВИЧ, ПОНОМАРЕВА ЛАРИСА НИКОЛАЕВНА
МПК / Метки
МПК: B23K 15/00
Метки: электронно-лучевой
Опубликовано: 25.06.1980
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-742076-ustrojjstvo-dlya-ehlektronno-luchevojj-obrabotki.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для электронно-лучевой обработки</a>
Предыдущий патент: Способ контроля глубины проплавления при электронно-лучевой сварке
Следующий патент: Установка для диффузионной сварки труб с трубными досками
Случайный патент: Способ получения окиси алюминия и солей калия и натрия