Способ электролитического осаждения палладия
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
пп 711183ИЗОБРЕТЕ 11 ИЯ Союз Советских Социалистических Республик(23) Приоритет -Опубликовано 250180. Бюллетень ИоДата опубликования описания 250180(5)М, Кд,2 С 25 Р 5/18"С 25 Р 3/50 Государственный комитет СССР по делам изобретений и открытий(54) СПОСОБ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ПАЛЛАДИЯ Изобретение относится к гальвансстегии, в частности к электролитическому осаждению палладиевых покрытий.Известен способ электролитического осаждения палладия на постоянномтоке 1). Однако получаемые покрытия обладают высокими внутренними напряжениями (225 кг/см) и удельным элек- лтросопротивлением (0,154-0,234 ом ьм/м),Наиболее близким к предлагаемомуявляется способ электролитическогоосаждения палладия из нитридных ихлоридных электролитов на импульсномтоке, Процесс ссаждения по этомуспособу осуществляют на импульсном токе прямоугольной формы придлительности импульса 0,15-0,60 с,паузе 4-4,4 с,плстности 5 А/дм 9,частоте 50 Гц (2),Покрытия, получаемые по данномуспособу, также обладают высокими внут 25ренними напряжениями.(240 кг/см ),что приводит впоследствии к их растрескиванию, и имеют высокое значениеудельного электросопротивления(0,113 ом мм /м),Цель изобре.ения - снижение удельного электросопротивления и внутренних напряжений покрытий.Указанная цель достигается тем, что процесс ведут при частоте тока 8000-10000 Гц и скважности 2-10.Высокая частота и короткий импульс тока позволяют потенциалу поверхности измениться от минимального до максимального значения. Это препятствует слиянию мелких пузырьков водорода в более крУпные, что имеет место при использовании постоянного тока или тока низких частот, т. е. создаются условия дессрбции водорода с поверхности покрытия. Таким образом, снижается наводорсживание поверхности палладия, а значит снижение внутренних напряжений и уменьшение удельного электросопротивления покрытий.Предлагаемый способ поясняется при мерами.П р и м е р 1, В электролитическую ячейку объемом 60 мл с двумя платиновыми анодами общей поверхностью 6 смзаливают электролит состава, г/л: хлорид палладия 2 (в пересчете на металл), нитрид натрия 45, хлорид аммония 50, сульфат аммония 90, аммиак 25. В качестве катода ис,5Р61 1111 1 8000 300 0,33 00 39 130, 02 287 я тем, что, ного электронних напряжеведут при часи скважии,экспертиз Формула изобретени о осаждехлоридном токе, кация тех ри осажде МДНТП, М,ологичесии метал,Способ электролитическоия палладия из нитридныхых электролитов на импуль Составитель В. Бобок е акто А. К авченко Тех ед Н.Бабурка Ко екто М. ДемчикТираж 698 сударственного комитета СССР ам изобретений и открытий ва ЖРа ская наб. . 4 5604/20ЦНИИПИпо де35 Мо Подписн аказ П Патент, г. Ужгород,филиал роектна пользуют медную Фольгу размером502,5 мм. Рабочий ток устанавливают импульсным генератором, средний ток - по амперметру магнитоэлектрической системы и регулируют спомощью резистора и магазина безындуктивных сопротивлений. Плотностьтока 1,5 А/дм , частота 8000 Гц,скважыость 2, Процесс ведут при20 С, рН раствора 8,5Электролиз проКак видно из таблицы, только при частоте тока 8000-10000 Гц и скважности 2-10 достигается значительное снижение удельного электросопротивления и внутренних напряжений, что позволяет предотвратить растрескивание покрытий:г,ф4водят "в гальваническом режиме (т, е. при постоянной плотности тока).П р и м е р 2. Электролитическое осаждение палладия осуществляют аналогично примеру 1 при частоте тока 10000 Гц, скважности 2, 5, 10 и плотности тока 1,5 А/дм, Процесс ведут при 20 С, рН раствора 8,5.Результаты экспериментов приведены в таблице,отлиЧающийсс целью снижения удельсопротивления и внутрений покрытий, процесстоте тока 8000-10600 Гцности 2-10.5Источники информпринятые во внимание пр1. Патент США Р 3544кл, 204-47, 1970.2, Интенсификих процессов плов и сплавов.с. 92-93.
СмотретьЗаявка
2617219, 17.05.1978
ВОЛГОГРАДСКИЙ ИНЖЕНЕРНО-СТРОИТЕЛЬНЫЙ ИНСТИТУТ
ОЗЕРОВ МИХАИЛ АЛЕКСАНДРОВИЧ, КАДАНЕР ЛЕВ ИЛЬИЧ, ФОМИЧЕВ ВАЛЕРИЙ ТАРАСОВИЧ
МПК / Метки
МПК: C25D 5/18
Метки: осаждения, палладия, электролитического
Опубликовано: 25.01.1980
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-711183-sposob-ehlektroliticheskogo-osazhdeniya-palladiya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ электролитического осаждения палладия</a>
Устройство для контроля толщины гальванического покрытия в процессе осаждения
Номер патента: 1305530
Опубликовано: 23.04.1987
Автор: Музычук
МПК: G01B 7/06
Метки: гальванического, осаждения, покрытия, процессе, толщины
...по толщине покрытие (это делается предварительно), причем это покрытие не контактирует с электролитом, а его толщина все время остается постоянной. Затем включается источник питания электролитической ванны и начинается процесс осаждения покрытия на объект и на группу электродов- свидетелей, которые подключены реверсирующим коммутатором 7 к отрицательному полюсу, соответственно с другой группы электродов-свидетелей, которые подключены к положительному полюсу, покрытие удаляется. Условия осаждения покрьйия на объекте и на измерительных преобразователях одинаковы, так как они подключены к общей дляних точке - катоду источника питания гальванической ванны. В процессе осаждения производится периодическая проверка значений толщины,...
Анодный узел для устройств электролитического осаждения покрытий
Номер патента: 1733509
Опубликовано: 15.05.1992
Авторы: Коркин, Смирнов, Устюгов
МПК: C25D 17/10
Метки: анодный, осаждения, покрытий, узел, устройств, электролитического
...толщиной 1 мм при плотности тока 6 А/дм(сила тока 200 А) и напряженииэлектролиза 5 В составило 14,7 ч, Расход электроэнергии для нанесения никелевого покрытия толщиной 1 мм на стенку кристаллизатора размерами 300 х 1200 мм составил 200 5 14,7 1015 2025 30354045 50 альные щечки, выполненные из оргстекла, и образует с ними и рабочей поверхностьюстенки кристаллизатора замкнутый по сечению межэлектродный зазор. В контейнер 1 укладывается фильтрующая ткань 3 "Хлорин", на нее засыпается в качестве анод- ного материала 2 гранулировэннь 1 й никель марки Н, который тщательно выравнивается. Нэ грэнулированный никель свободно укладывается никелевая пластина 4 маркиНПАтолщиной 10 мм с перфорацией диаметром 5 мм. На пластину 4 загибаются края...
Устройство для контроля толщины гальванического покрытия в процессе осаждения
Номер патента: 968590
Опубликовано: 23.10.1982
Авторы: Галан, Краснопрошина, Пилько, Светлов
МПК: G01B 7/06
Метки: гальванического, осаждения, покрытия, процессе, толщины
...4имеет необходимое покрытие требуемой толщины и изолирован от воздействия электролита. К выходу измерительного преобразователя 2 подключены соединенные последовательно элект- Оронный коммутатор 5, блок б памятии блок 7 сравнения, причем второйвыход электронного коммутатора 5 подключен к второму входу блока 7 сравнения. Перемещение электрода-свиде- З 5теля 3 и эталона 4 осуществляетсяэлектромагнитом 8, обмотка которогочерез усилитель 9 мощности подключена к генератору 1 О импульсов, Второйвыход генератора 10 импульсов соединен с управляющим входомэлектронногокоммутатора 5. Работой устройствауправляет блок 11 управления, входкоторого соединен с выходом блока 7сравнения, а выходы - с блоком б памяти, задающим генератором 1 и...
Устройство для нанесения электролитических композиционных покрытий на внутреннюю поверхность деталей
Номер патента: 998596
Опубликовано: 23.02.1983
Авторы: Балуев, Липатов, Плеханов
МПК: C25D 19/00
Метки: внутреннюю, композиционных, нанесения, поверхность, покрытий, электролитических
...14 с попшипниками 15 и16 расположен в корпусах 19 и 20, установленных на плите 2. На шпинделе14 смонтирована шестерня 21, находящаяся в зацеплении с шестерней привода.Центральный канал В аноцодержателя 7соеаиняюг с цилиндром 22 посредствомшланга 23, а подводящий канал Мс насосом, поцаюшим.элекгролит в зонуэлекгролиэа через шланг 24. Второйконец аноцодержателя центрируют вофторпдастовой втулке 25, установленнойв шпинцеле 14,Устройство рабогает слецующим образом,Вначале кассету 12, в которой закреплены покрываемые детали 11, например, вкладыши подшипников скольженияперемещают совместно с аноцоцержагелем 7, пинолью 3 и поршнем 4 при поцаче масла в полость Х гицроцилинара 5и устанавливаюг в отверстие шпинцеля14, Затем...
Устройство для нанесения электролитических композиционных покрытий
Номер патента: 1225882
Опубликовано: 23.04.1986
Авторы: Балуев, Бородин, Липатов
МПК: C25D 17/02
Метки: композиционных, нанесения, покрытий, электролитических
...1 О приспособления 7, закрепляется прихватами 11 и винта ми 12. В отверстие покрываемой детали 9 вводится анод 5. Основной ролик 22 и уплотнительные ролики 24 прижимаются к покрьваемой поверхности детали. Усилие прижима основного ро лика к поверхности детали регулируют посредством изменения усилия пружины 27, осуществляемого поджимной гайкой 28.Усилие прижима ролика к покрынае мой поверхности Р определяется вы- ражением 30 Кроме этого, уплотнительные роли ки 24 устраняют перетекание суспензии непроводящих частиц дисульфида молибдена и зоны выращивания частиц, НаР = Р 1 К Т(1) где Р - усилие тарированной пружиПрны 27, соответствующее изменению ее длины, измеряемоепосредством величины зазораБ между торцом поджимнойгайки 28 и токосъемной...
Предыдущий патент: Электролит бронзирования
Следующий патент: Устройство для нанесения металлических покрытий на контактные дорожки автотрансформаторов
Случайный патент: Способ непрерывной скрутки гибких нитей