Способ получения негативного изображения

(22) Заявлено 30.10,75 (21) 2187744/18 21 (5 с присоединением заявки-З 03 Р 7/Н 05 КЗ/О ооудвротвенный комет СССР по делам изооретеннй и отнрытнйет 3) УДК 621.382 , 002 (088. 8) публиковано 15. 03.79 Люллетень10 ата опубликования описания 18,03,79(72) Авторы изобретени Толоченко В, Мюллер, Т. нкстьянова роизводственно-техническое объединениевор" им. А. М. Горького радскечатнь е 71) Заявител НИЯ НЕГАТИВНОГО ИЗОБРАЖЕНИ СПОСОБ Недостатком извесьного способа является трудоемкость, необходимость вспециальном оборудовании, а также - виспользовании токсичных и дорогостояших органических растворителей,Цель изобретения - упрошение и удешевление технологического процесса,Поставленная цель достигается тем,что в способе получения негативногоизображения, включаюшем в себя нанесеФние на пластину слоя светочувствительного материала на основе хинондиазида,его селективнбе акспонирование, фиэикохимическую обработку, полное засвечивание, проявление, физико-химическую обработку слоя светочувствительного материала на основе хинондиаэида проводят врастворе тринатрийфосфата до образования на акспонированных участках инденкарбоновой кислоты, причем физико-химическую обработку проводят в течение0,5-1 м.В результате физико-химической обработки проэкспонированного сдточувствиирует высококарельефное изобраого фоторезиста иположительные воэфоторезиста и негаДанный способ форм чественное негативное,жение в слое поэитивн обьединяет тем самым можности позитивного тивного процесса.Изобретение относится к области полиграфии и может быть использовано при изготовлении клише для многокрасочных работ штриховых, тоновых клише и гибких комбинированных печатных форм, а также в радиотехнической промышленнос ти при изготовлении печатных плат,Известен способ получения негативного иэображения, заключающийся в том, что на пластину наносят слой светочув ствительного материала - фоторезиста на основе хинондиазида, селективно акспопируют через фотошаблон, обрабатывают в среде органического растворителя до набухания, сушат, полностью засвечивают слой фоторезиста с послед,ошим проявлением рельефного изображения.652524652524 4щении процесса, так как отпадает необходимость в сушке при повышенной температуре, а следовательно, в дополнительном сложном и дорогостоящем оборудова 5 нии и вентиляции для сушки и набухания.Отпадает необходимость в применении дорогостоящих и токсичных органическихрастворителей, что улучшает условия труда и способствует охране внешней среды.Отпадает необходимость в многократнойэкспозиции, поскольку по предлагаемомуспособу вместо вторичной многократнойэкспозиции производится общее засвечивание всей пластины в помещении с обычным освещением, что сокращает времяиспользования экспонирующего оборудования и позволяет совмещать операции,Способ позволяет использовать позитивный светочувствительный слой дляполучения как позитивного, так и негативного изображения и улучшает качество получаемых клише. 35 тельного слоя на основе хинондиазида в проявителе на экспонированных участках"слоя прдисходит превращение инденкетенав инденкарбоновую кислоту.При последующем засвечивании слоя(например, путем выдержки при естественном освещении) инденкарбоновая кислота димеризуется и переходит в стабильное состояние, устойчивое к щелочным проявителям.Участки, не подвергающиеся действию света при селективном экспонировании, при последующем чолном засвечивании претерпевают обычные изменения, т.е. образуется инденкетен, который при проявлении образует растворимую соль, вымываемую водой. В результате образуется негативное изображение на позитивном светочувствительном слое.П р и м е р . Используют позитивную эмаль следующего состава:Хинондиазид 40 гНоволачкая смола 50 гЛак эпоксидный 100 млАцетон 200 млЭтилцеллозольв 650 млДиэтилформамид 150 млМетилвиолет 4 гЦинковые пластины, политые эмалью,подвергают экспонированию, проявляют в10%-ном растворе йцЩФ(тринатрий фосфата) в течение 40 с, Затем пластинывыдерживают в светлом Помещении 1 ч,а после засветки проявляют в проявителе следующего состава."Тринатрийфосфат 10% р-р - 3 лЕдкий натр 10% р-р - 300 млГлицерин 300 млВремя проявления - 40 с.40Затем копии промывают в холоднойводе и высушивают.Положительный эффект от использования данного способа заключается в упроформула изобретения 1. Способ получения негативного изображения, включающий нанесение на пластину слоя светочувствительного материала на основе хинондиазида, его селективное экспонирование, физико-химическую обработку, полное засвечивание, проявление, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью упрощения и удешевления технологического процесса, физико-химическую обработку слоя светочувствительного материала на основе хинондиазида проводят в растворе тринатрийфосфата до образования на экспонированных участ ках инденкарбоновой кислоты.2. Способ по п. 1, о т л и ч а юш и й с я тем, что физико-химическую обработку проводят в течение 0,5-1 м.Составитель О, ПавловаРедактор Т. Янова Техред И. Асталош Корректор М. ДемчикЗаказ 1057/44 Тираж 547 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб д, 4/5 Филиал ППП фПатент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4