Оптическая система

ощ 56627 ОП ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕН Ия Союз Соввтских Социалистических Республик(51) М, Кл6 02 В 27/1 присоединением заявки Л Государственный комитетСовета Министров СССРпа делам изобретенийи открытий(45) Дата опубликования описания 0.10,77(71) Заявитель 54) ОПТИЧЕСКАЯ СИСТЕМА Изобретение относится к проекционным системам, в частности, для проекции изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину при производстве микроэлектронных схем.Известны проекционные системы, в которых осуществляется одновременный перенос изображений всех элементов фотошаблона на полупроводниковую пластину с высоким разрешением по всему полю зрения системы 111. Однако вследствие недостаточной глубины резкости таких систем возможность использования их для проекции изображений обьектов на поверхность со значительными отступлениями от плоскости, например поверхность полупроводниковой пластины, ограничена.Для уменьшения влияния неплоскостности фоточувствительной поверхности полупроводниковой пластины используют системы с автоматической фокусировкой 2, В этих системах при одновременном перемещении фотогцаблона и полупроводниковой пластины соблюдение постоянства масштаба в процессе экспонирования обеспечивается за счет выполнения системы из двух одинаковых объективов, что, в свою очередь, приаодит к увеличению расстояния между предметом и изображением, для уменьшения которого требуется излом оптической оси,Системой, в которой учтены указанные выше требования, является проекционная сп.стема 13, 4, 5 с увеличением +1, содержащая два одинаковых объектива с вогнутым зеркалом в каждом из них, размещенную 5 между ними полевую диафрагму и установленные соответственно перед первым п за вторым объективами плоские отражатели, наклоненные к их оптическим осям на 45".Однако эта система имеет лоле зрения малых О размеров пз-за чего снижается производительность процесса изготовления микросхем,В предлагаемой системс для увеличенияноля изображения каждый пз объективов выполнен не менее, чем из двух компонентов, 5 крайние из которых жсстко скреплены соответственно с вогнутым зеркалом и с плоским отражателем, а расстоянпс между оптическими осями объективов равно удвоенному расстоянию от центра диафрагмы до оптической 20 осп одного из них.Описываемая система, показанная на чертеже, служит для проекции изображения части фотошаблона 1 па параллельную ему полупроводниковую пластину 2 в однократном 25 масштабе без оборачивания. Система содержит два одинаковых объектива, каждый из которых составлсн из двух компонентов 3 и 4 (первый объектив) и 5 и 6 (второй объектив), при этом с компонентами 3 и 5 соответ- ЗО ственно жестко связаны отражатели 7 и 8,565272 2 Составитель Г. ЛитвинХейфиц Техред В. Рыбакова Корректор Л. Денискин едактор Заказ 5803НПО 1 раж 633а Чииистт)корытинаб., д. 4/б Изд. М 581 Т ос 1 дарствеииого комитета Сет ио делач изобретений и от 3035. Москва, )К, РаушскаяПодписноеСССР МОТ, Загорскш филиал наклоненные на 45 к оптическим осям объективов, а с компонентами 4 и 6 - вогнутые зеркала 9 и 1 О.Изображение части фотошаблона 1 отражателем 7, первым объективом из элементов 3, 4, 9 формируется в плоскости полевой диафрагмы 11, совпадающей с плоскостью прсдмета второго объектива из элементов 5, 6, 10, оптическая ось 12 которого смещена от центра диафрагмы 11 на половину расстояния этои оси до оптической оси 13 первого ооъсктива,Благодаря компенсации аберраций объективов за счет параллельного смс 1 цсния пх оптических осей в описанной схеме увеличено поле изображения. формула изобретения Оптическая система с увеличением плюс единица, например, для проекции изобракения фотошаблона на параллельную ему полупроводниковую пластину, содержащая два одинаковых обьектива с вогнутым зспкалом в каждом из них, размещенну 10 между ними 4полевую диафрагму и установленные соответственно перед первым и за вторым объективами плоские отражатели, наклоненные к их оптическим осям на 45, о т л и ч а ю щ а я с я том, что, с целью увеличения поля изображения, каждый из объективов выполнен не меисс, чем из двух компонентов, крайнис из которых жестко скреплены соответственно с вогнутым зеркалом и с плоск 11 м отракатслсм, 10 а расстоянцс между оптическими осимиобъективов равно удвоенному расстоянию от центра диафрагмы до оптической оси одного из пих. Источники информации,1 б принятые во внимание при эксперти:1 е1, Авторское свидетельство310585,6 02 В 17/08, 1970.2, Авторское свидетельство254815,6 02 В 11/34, 1969.3, Авторское свидетельство354389,б 02 В 21/02, 1972.4. Авторское свидетельство439778,б 02 В 17/08, 1974.5, Бо 1 с Яае Тес 1 по 1 одуНт 1 е 1974,28 р, 50 - 53 (прототип) .