Регулярную насадку для тепломассообменных аппаратов

Номер патента: 556826

Авторы: Васин, Григоренко, Задорский, Олемберг

ZIP архив

Текст

си61) Дополнительное к авт, свил-ву22) Занвлеио Щ,О 9.75 (21) 2171149/26 51) М. Кл присоедииением заявки Мв В 01 О 532) Йвта опубликования описания 12.09.77 72) Авторы изо бремени Н. В. Васин, В. М. Задорский, В. И. Олемберг ц В, И. Григоренко(54) РЕГУЛЯРНАЯ НАСАДКА ДЛЯ ТЕПЛОМАССООБМЕННЫХ АППАРАТОВИзобретение относится к устройствам для осуществления процессов тепломассообмена и мо. жет быть использовано в отраслях промышлен. ности, связанных с применением абсорбции, ректификации, охлаждения, выпаривания и других тепло. вых и диффузионных процессов.Известна цасадка из плоскопараллельных пластин. Недостатком насадки является сравнительно низкая эффективность контакта фаз ( из-эа неравномерности толщины и слабой турбулизации стека. ющей по пластинам пленки жидкости) и узкий диапазон устойчивой работы при изменении нагрузок по жидкой фазе (иэ.за разрыва пленки на струйки при малых нагрузках и утолщения ее при высоких нагрузках). Предложенная насадка отличается от известной тем, что каждая пластина снабжена наклонными попарно-установленными чередующими по высоте срезающими и перераспределительными элементами, выполненными, например в виде полос, одни из которых жестко закреплены на пластине, а другие установлены с зазором по отношению к ней.На чертеже изображена предлагаемая насадка, продольный разрез. Ф Всудврствннни 9 ноете Совета Мнннстппв РЖР в дала нзФнтннюн отнвл 1 тнй Насадка состоит иэ вертикальных параллельных пластин 1 и расположенных регулярно по высоте и попарно-расположенных срезающих 2 и перераспределительных 3 элементов. Элементы 2 и 3 могут быть выполнены, например, в виде прямоугольных полос из листового материала и установлены с зазором и под углом по отношению друг к другу, Элемент 3 установлен с зазором и по отношению к пластине 1. Величина углов и зазоров между элементами 2 и 3, а также между пластиной 1 и элементами 3 определяется расходом физическими свой ствами фаз и требуемой толщиной пленки жидкости.Расстояние между соседними парами срезающих и перераспределительных элементов выбирается таким, чтобы обеспечивалось обновление пленки жид. кости с требуемой частотой.Насадка работает следующим образом.Поступающая в аппарат, в котором установлена насадка, жидкость стекает пленкой по стенкам пластин, контактируя с газом (паром). Толщина стекающей пленки жидкости и равномерность ее распределения по поверхности насадки регулируются величиной зазоров и углов наклона элементов между собой и по отношению к пластине и устанав556826 оставитель С Барановаехред А. Демьянова Редактор О. Филиппо рА. Грипс аз 1079/40 ираж 947 Подписноерственного комитета Совета Министров С о делам изобретений и открытий, Москва, Ж - 35, Раушская наб., д 4/5 ЦНИИПИ Госуда Филиал ППП " Патент ", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 3лиьавтся постоянными, Постоянство толины и равномерность растекания пленки по насадке обеспечивают стабильность характеристик и высокую эффективность работы в широком диалазоне изменения нагрузэк по фазам, а также и случаях изменения физических свойств и массовых расходов пере рабатываемой жидкости по его высоте, характерных, например, для процессов ректификации,При набегании пленки жидкости на срезающий элемент 2 происходит срыв ее со стенки пластины 1 и соударение с плоскостью элемента 3. Это приводит к перемешиванию жидкости на элементе, периодическому перераспределению и обновлению слоев стекающей пленки и следовательно, к интенсификации процессов тепло- и массообмена,Кроме интенсификации проводимых процессов и расширения диапазона устойчивой работы из.за наложения с определенной частотой возмущений на пленку жидкости и обеспечения гарантированной толщины и равномерности растекания пленки по поверхности насадки при изменяющихся нагрузках по жидкой фазе элементы 2 и 3 способствуют пассивации процесса образования осадков на пла. стинах при переработке загрязненных продуктов и насыщенных растоворов. Данный эффект обуслов ливается регулярным пере меши ванне м и перераспределением слоев пленки жидкости на насадке, препятствующим отложению солей и твердых частичек. Формула изобретения 10Регулярная насадка для тепломассообменныхаппаратов, содержащая плоскопараллельные пла.стины, о т л и ч а ю щ,а я с я тем, что, с целью новы.щения эффективности за счет обеспечения гарантированной толщины и равномерности растекания пленки по поверхности насадки и расширения дна назона устойчивой работы, каждая пластина снабжена наклонными попарно-установленными чередующимися по высоте срезающими и перераспре.делительными элементами, выполненными, например, в виде полос, одни из которых верхними кромками жестко закреплены к пластине, а другие - уста.новлены с зазором и под углом по отношению к ним и к пластине.

Смотреть

Заявка

2171149, 10.09.1975

ЗАВОД ВТУЗ ПРИ КАРАГАНДИНСКОМ МЕТАЛЛУРГИЧЕСКОМ КОМБИНАТЕ

ВАСИН НИКОЛАЙ ВАСИЛЬЕВИЧ, ЗАДОРСКИЙ ВИЛЬЯМ МИХАЙЛОВИЧ, ОЛЕМБЕРГ ВИКТОР ИВАНОВИЧ, ГРИГОРЕНКО ВЛАДИМИР ИЛЬИЧ

МПК / Метки

МПК: B01D 53/20

Метки: аппаратов, насадку, регулярную, тепломассообменных

Опубликовано: 05.05.1977

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-556826-regulyarnuyu-nasadku-dlya-teplomassoobmennykh-apparatov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Регулярную насадку для тепломассообменных аппаратов</a>

Похожие патенты