Устройство для отклонения луча
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
ит 458800 Союз Советских Социалистических Республик1) Зависимое от авт. с2) Заявлено 03.09,73 (2 ельств 1) И. Кл. 6 02 1958380/18-1 нением заявкиприсо Государственный те Совета Министров СССР 53) УДК 535.81.813:: 534-16 (088.8 етень4 делам изобретении и открытий ия 13.03.7 Авторыизобретения Сомов, А. А,. Дулькин 71) Заявител 4) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОТКЛОНЕНИ А зо бр етен едм Устройство для отщее отражатель и пьотражателя, отличцелью обеспечения оном угле, пьезокеранен в виде двух бижестко скрепленныхповерхостями так, чтба были взаимно пер я луча, содержамический привод ся тем, что, сия луча в телесй привод выполх пьезоэлементов собой торцовыми оскости их изгилярны. клонениезокераающеетклоненмическиюрфнымеждуобы плпендику(32) ПриоритетОпубликовано 30,01.75, БДата опубликования опи Изобретение используется при создании систем стабилизации изображения, сканирующих систем, лазерной связи.Известны устройства для отклонения луча, содержащие отражатель и пьезокерамиче ский преобразователь в качестве привода. Однако такие устройства не обеспечивают отклонения луча в разных плоскостях с помощью одного привода.Цель изобретения - создание устройства, 10 обеспечивающего отклонение луча в телесном угле с помощью одного привода.Это достигается тем, что в предлагаемом устройстве пьезокерамический привод выполнен в виде двух биморфных пьезокерами ческих элементов, жестко скрепленных между собой торцовыми поверхностями так, чтобы плоскости их изгиба были взаимно перпендикулярны.На чертеже показано предлагаемое уст ройство.Биморфный пьезоэлемент 1 своей торцовой поверхностью с помощью переходной шайбы 2 жестко соединен с торцовой поверхностью биморфного пьезоэлемента 3, на другом конце которого укреплен отражающий элемент 4. Плоскости изгиба пьезоэлементов взаимно перпендикулярны.Устройство работает следующим образом.При подаче управляющих напряжений Ут и У 2 на биморфные пьезоэлементы происходит их изгиб в плоскостях ХОЛ и ХОУ соответственно, что вызывает отклонение отражающего элемента 4 в соответствующих плоскостях на углы, пропорциональные этим напряжениям.Редактор Т. Рыбалова Корректор Н. Стельмах Типография, пр. Сапунова, 2 Заказ 559(19 Изд.1067 Тираж 593 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, Ж, Раушская наб., д. 45
СмотретьЗаявка
1958380, 03.09.1973
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ А-7526
СОМОВ ЕВГЕНИЙ ИВАНОВИЧ, ФАДЕЕВ АНАТОЛИЙ АЛЕКСЕЕВИЧ, ДУЛЬКИН ЛЕОНИД ЗИНОВЬЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: G02F 1/34
Метки: луча, отклонения
Опубликовано: 30.01.1975
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-458800-ustrojjstvo-dlya-otkloneniya-lucha.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для отклонения луча</a>
Предыдущий патент: Способ модуляции яркости газоразрядной индикаторной панели
Следующий патент: Приемная катушка для намотки фотопленки
Случайный патент: Роторно-вибрационный экстрактор