Терморезистор для измерения температуры

Номер патента: 1583792

Опубликовано: 07.08.1990

Автор: Витол

МПК: G01N 13/02

Метки: вещества, натяжения, поверхностного, состоянии, твердом

...сварки. Целью изобретения является повышение точностипутем исключения ошибок, связанныхс использованием одноосного нагружения, Цель достигается измерением изменения радиуса поры в твердом веществе в процессе изотермическогоотжига, определением скорости измерения радиуса поры и расчетом поверх-.ностного натяжения по этим величинам. ются поры - вакансионные пузырьки. Пластинку разрезают на кусочки 10 х х 10 х 2 мм и наносят на них слой никеля электролитическим путем (при.мерно 1 мм со всех сторон), Каждыйо кусочек нагревают при 1200 С различное время, После этого изготоьляют шлифы для металлографии перпендикулярно плоскости контакта спеченных пластинок железа, регистрируют изменение радиуса пор в зависимости от времени нагрева...

Номер патента: 55330

Опубликовано: 01.01.1939

Автор: Барменков

МПК: A01H 1/02, A01H 1/04

Метки: веществ, нанесения, порошкообразных, преимущественно, пульверизатор, растения, селекционными, сухой, целями

...5,открывающейся внутрь резервуара 1.К наружному концу трубки б присоединена резиновая гоуша воздуходувного аппаратаВ суженную часть грушевидногорезервуара 1, переходящего в выводную трубку 3, впаяна вспомогательная трубка 2, заканчивающаяся дырчатой шарообразной головкой 10, расположенной внутри выводной трубки 3, При этом место спайки 9 отделяет полость резервуара 1 от по.лости трубки 3.Для заражения колоса 11 пыльнойголовней резервуар 1 заполняют спорами последней настолько, чтобыверхний воронкообразный конецтрубки 2 находился выше уровняспор, и вставляют трубку 3 в надетый на колос изолятор 7 из пергаментной бумаги или тому подобногоматериала.Изолятор этот укрепляется на вы-бранном для заражения колосе завя-зыванием изолятора на...

Номер патента: 1043539

Опубликовано: 23.09.1983

Автор: Мещерин

МПК: G01N 25/04

Метки: вещества, плавления, твердого, температур

...с помошью низко.омного потенциометра ПМСи самопишушегопотенциометра ЭПП - 17 мз, реконструированного на чувствительность 0,016/мм диаграмнойленты.Расплавившееся на внешней поверхности об.разца вещество, дренируя сквозь образец и вызывая плавление по всей внутренней его по 1верхности, вытекало из образца, тогда какплавящееся в газовой среде твердое вещество находилось в контакте с датчиком,Через одну минуту после начала нагревания, в течение 3,5. мин самописец регистрировал строго горизонтальный, в пределах тол.шины пера, участок кривой плавления, отвечающий температуре 52,70 С, еше через минуту вещество расплавилось,П р и м е р 2. Было проведено измерение температур плавления малеинового ангидрида марки ч.д,а., изготовленного .в 1968...

Номер патента: 1805304

Опубликовано: 30.03.1993

Авторы: Зинкин, Копытин

МПК: G01J 5/00

Метки: веществ, дистанционного, жидкостей, находящихся, расплавленном, состоянии, температуры

...можно записать в виде уравнения; Япр)( г г 2) = 2 спользуя полученное значение концентраии растворенного в жидкости 1-го газа, аакже уравнение Клапейрона-Клаузиуса,олучим; Топ Т 0) (3Топ - Т 0 Й 10%оп где Т 0 - температура иссле сти, Топ - опорное значени исследуемой жидкости, К 0 концентрация 1-го газа, ра жидкости при температуре Т значение концентрации раст при температуре жидкости теплота испарения газа и жи кости,дуемои жидкое температуры- измеренная створенного в 0, %оп-ОПОРНОЕворенного газа Т,п, - , 4 = )/(Т) з исследуемой дНа уровне (3) можно выразить температуру исследуемого вещества в зависимости от измеряемой концентрации растворенного в нем газа: где Р(г) - мощность принимаемого с рассто 15 яния г сигнала комбинационного...

Номер патента: 169448

Опубликовано: 01.01.1965

Авторы: Задв, Морозов

МПК: F26B 17/10

Метки: аппарат, веществ, взвешенном, состоянии, сушки

...имеет лепестковый зепорный клапан 7, К 25 внутренним стенкам корпуса аппарата прикреплены сепарирующие щитки 8, защищающие штуцера 5 и б от попадания в них вместе с отработанным газом взвешенных частиц,Газ-теплоноситель со взвешенным вецест Высушенные и нагретые доратуры частицы сосредотачива центру, подходят к выходному через лепестковый запорный рым регулируется количество шенных частиц, выводимых из пают в циклон для отделения зов. Процесс термической переработки в пред.лагаемом аппарате может ослцестнляться как прн избыточном давлении, так и прн разряженном,одписная группа Л 275 ан общий вид описываемого 15 вом через всасывающии штуцер поступает в спиралевидный направляющий аппарат, Взвешенные частицы вместе с...