Способ изготовления антистатической основы для кинофотоматериалов

ZIP архив

Текст

, Подгородецкий, РЛ. М, Богдандарственныйхимико-фот Заявитель Всесоюзный госу институти ПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ АНТИСТАТИЧЕСКОЙ ОСНОВЫ ДЛЯ КИНОФОТОМАТЕРИАЛОВПример 2, Дву термофиксированную этилентерефталатную как в примере 1, 0,0 этиловом спирте и вь осноориентированную и подслоированную полиоонову обрабатывают, н. раствором КОН в сушивают при 70 - 75 С,Известен способ обеспечения антистатической защиты кинопленок путем нанесения на обратную сторону фотоматериала лакового слоя, содержащего натриевую соль продукта конденсации п-крезилгликоля с и-оксибензой ной кислотой (лак ОК) или натриевую соль сополимера метилметакрилата и метакриловой кислоты.Однако при нанесении эмульсионного слоя на обе стороны подложки (например, в слу чае изготовления рентгеновских, фототехнических и других пленок) антистатический лак применять нельзя, так как на обе стороны подложки наносится подслой для,скрепления эмульсионного слоя с подложкой. В этом слу чае подслой должен не только обеспечивать скренление подложки с эмульсионным слоем, но и обладать антистатическими свойствами, чтобы исключить возникновение зарядов при поливе эмульсионного слоя. 20Отсутствие подслоя с антистатическими свойствами делает практически невозможным полив эмульсионных слоев на высокоскоростных машинах с интенсивной сушкой эмульсионного слоя. 25С целью обеспечения универсальной антистатической защиты кинофотоматериалов по предлагаемому способу полимерную основу с подслоем, содержащим вещества с кислыми группамп, пропускают через квветУ со спир товым раствором щелочи. После обработки пленку высушивают,при 70 - 75 С.Полимерная подслоированная основа, обработанная таким образом, имеет хорошую адгезию к эмульсионному слою; поверхностное сопротивление основы после обработки 110 ом - 110 ом при относительной влаж. ности 65%. Такая основа имеет хорошую прозрачную поверхность. Основа, обработанная 0,01 - 0,06 н. раствором щелочи, после высушивания при смотке в рулон не слипается,Пр и м ер 1. Подслоированную триацетат. ную основу обрабатывают в кювете с помощью купающего валика 0,045 н. раствором КОН в метиловом спирте и высушивают при 70 - 5 С. Затем на антистатический подслой наносят обычным методом фотографический эмульсионный слой. Удельное поверхностное сопротивление антистатического подслоя прп влаяности 65% 0,2 10 ом,Контрольный образец без обработки: удельное поверхностное сопротивление при относительной влажности 65% 0,4 104 ом,335659 Предмет изобретения Составитель Ж, Дубовик Техред 3. Тараненко Корректор Л, Царькова Редактор 3, Горбунова Заказ 1340/1 О Изд.555 Тираж 448 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2 после чего наносят эмульсионный слой;Злектропроводность подслоя при относительной влажности 65% 0,9 10 ом. Контрольный образец без обработки: электропроводность подслоя при относительной влажности 65% 0,1 104 ом,Способ изготовления антистатической основы для кияофотоматериалов, отличающийся 5 тем, что, с целью обеспечения универсальнойантистатической защиты кинофотоматериалов, полимерную основу с подслоем, содержащим вещества с кислыми группами, обрабатывают раствором щелочи.

Смотреть

Заявка

1468973

Е. К. Подгородецкий, Р. А. Сорокина, А. Б. Алишоева, Л. М. Богданов, Н. П. Колотилова, Всесоюзный государственный научно исследовательский, проектный институт химико фотографической промышленности

МПК / Метки

МПК: G03C 1/85

Метки: антистатической, кинофотоматериалов, основы

Опубликовано: 01.01.1972

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-335659-sposob-izgotovleniya-antistaticheskojj-osnovy-dlya-kinofotomaterialov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления антистатической основы для кинофотоматериалов</a>

Похожие патенты