151104

Номер патента: 1398778

Опубликовано: 23.05.1988

Авторы: Бернхард, Вильгельм, Гюнтер

МПК: G01M 3/24

Метки: давлением, емкостях, места, работающих, утечки

...контролировать функцию определения местонахождения. 35Кольцевая линия 20 ведет к головной станции 25, которая находится за пределами включающего первичный контур 1 резервуара 26. Головная станция 25 включает в себя цифровое элек" тронное устройство 27 обработки данных, щеющее запоминающее устройство 28 и микропроцессор 29, который управляет самописцем 15. С электронным устройством 27 обработки данных связана через провод 30 шина 31, которая ведет к диагностической системе. Провод 32 ведет к другой шине 33, которая принадлежит управляющей технике атомной электростанции, которая80 включает в себя реактор, охлаждаемый водой под давлением. К электронному устройству 27 обработки данных может быть присоединено мобильное табло 34...

Номер патента: 766748

Опубликовано: 30.09.1980

Авторы: Беднов, Молчанов

МПК: B23B 1/00

Метки: находящегося, одного, приспособление-инструмент-деталь, резонансе, системы, станок, элементов

...резонирующий элемент,Основанием для приравнивания количества сегментов стружки к частотевысокочастотных колебаний являетсято, что периодический характер процесса резания является источникомвнутренних колебаний в зоне резания,а также положений сдвиговых плоскостей. Другими словами, и количествосегментов стружки и частота высокочастотных колебаний определяются всвоей основе одним и тем же источником - образованием сдвиговых плоскостей. Такое положение и являетсяпричиной для равенства количествасегментоВ стружки, образовавшихся,в единицу времени, частоте высокочастотных колебаний.Способ был апробирован в производственных условиях,Для проверки достоверности результатов, определение находящегося в резонансе элемента системы СПИД...

Номер патента: 1154573

Опубликовано: 07.05.1985

Авторы: Кунавин, Санников

МПК: G01M 11/00

Метки: объектива, плоскости, положения, фокальной

...коллиматорный объектив 7. Соосно отражающей поверхности 6 по другую сто-рону светоделителя 4 установлена све топриемная площадка 8 фотоприемника. Светоприемная площадка 8 установлена между фокальными плоскостями 9 и 10 фокусирующих элементов. Фокальная плоскость 9 образована фокусирующим элементом, содержащим сферическое зеркало 5 (фиг, 1) или плоское зеркало 5 и объектив 7 (фиг.2),а фокаль- ная плоскость 1 О образована фокусирующим элементом, содержащим сфери- ЗО ческое или плоское зеркало 6. Между отражающими поверхностями 5, 6 и сзетоделителем 4 установлен модулятор света, выполненный в виде непрозрачного полудиска 11, закрепленного на ва лу электродвигателя 12. Сторона 13 полудиска 11, обращенная к светодели,телю 4, выполнена...

Номер патента: 1224643

Опубликовано: 15.04.1986

Автор: Санников

МПК: G01M 11/00

Метки: объектива, плоскости, положения, фокальной

...вызывая в его выходной цепи электрический сигнал, который после усиления в усилителе 21 запитывает обмотку электромагнитного реле 22. Реле срабатывает и, замыкая контакт 30, соединяет управляюший вход исполнительного механизма 24 с выходом фазового детектора 29, переключая тем самым управление исполнительным механизмом 24 на управление от электрического сигнала основного фотоприемника 8. В цепи фотоприемника 8 в это же время О образуется пульсирующий по амплитуде электрический сигнал, соответствующий разности освешенностей в плоскости его светочувствительного слоя, создаваемых световыми пучками, идущими от отражаюших поверхностей 5 и 6. Этот электрический сигнал после усиления, преобразования и определения полярности при...

Номер патента: 1281950

Опубликовано: 07.01.1987

Автор: Санников

МПК: G01M 11/00

Метки: объектива, плоскости, положения, фокальной

...образом, 50Перед измерением линейным перемещением платформы 21 устанавливаютрасстояние 2 О между плоскостями 9 и10 в зависимости от Фокусного расстояния испытуемого объектива 3. При 55этом клин 22 платформы 21 через толкатель 23 соответственно расстоянию1,26 ь изменяет расстояние 2 между 1950 4крайними элементами 29 и 30 линейки фотоприемников за счет взаимно противоположного перемещения двух частей 18 и 19 разрезной диафрагмы 16. Расстояния 2 е 1 и 211 заранее рассчиты" ваются в обратно-пропорциональной зависимости от Фокусного расстояния испытуемого объектива и регистрируются на шкале (не показана) подвижки платформы 21, Нулевое значение указанной шкалы соответствует совпадению плоскостей 9 и 10 со светоприемной плоскостью 8...