Устройство для получения плотной высокотемпературной плазмы

Номер патента: 1464303

Автор: Шестаков

ZIP архив

Текст

/О О,С 2 51)4 Н ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЦТПРИ ГННТ СС(;Р ЗОБРЕТ ЕЛЬСТВУ(56) Патент США Яф 4028579,кл. С 21 В 1/00, 1979.Алиханов С.Г., Бахтин В.П. Изование ш=0 неустойчивости Зетлайнера для трехмерного сжатиямы. ДАН СССР, 1982, т.263. У 2,с. 322-324,(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛНОЙ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ, ным плазменным системам и можетиспользовано в установках с импным магнитным сжатием плазмы, аже в качестве импульсного источ ы- ой азульс- быть ульс- так- ника 1е относю систе транство ения пла ься твер ное терм зобретениплазменн про олуч сыть ьс- ак- а импулможет нымис становках с импуп пол ьзова ным магнит же в качес нейтроновнное на внутермоядернои энерг тения - повьппениатия и нагреваизображено устрплотной высокот аз мы. ствомпера 1у 2 содержит электродыных конусов, оболочкеского пояса с толщиопорциональной квадот оси электродов,например смесь дей ч Цель изобр фективности сж На чертеже для получения турной плазмы Устройство в виде усечен в Форме сферич ной обратно пр ту расстояния. зовую смесь 3сжатием плазмы, аимпульсного источник нейтронов и в термоядерной энергетике. Цель - повышение эффективностисжатия и нагрева плазмы, образующейся в результате ионизации газовойсмеи или термоядерного топлива.В устройстве для получения плотнойвысокотемпературной плазмы электродывыполнены в виде усеченных конусовтак, что образующие конусов переаекаются в одной точке, а,оболочка вполнена в Форме пояса со сферическ;поверхностью с центром, совпаданпцимс точкой пересечения образующих конусов. При этом толщинаоболочки об.ратно пропорциональна квадрату расстояния от оси системы, а начальньпюрадиус оболочки превьппает расстояниеот точки пересечения конусов до границы плоских участков электродов.1 ил,и трития, заполняющуювнутри оболочки. Длямы может также испольдое вещество или замоядерное топливо, нанереннюю сторону оболочУст ойство работае Р т следующим об разом.При пропускании тока между электродами 1 по оболочке 2 последняя сжи мается и нагревает газовую смесь 3.Сила, действующая на каждый участок оболочки, обратно пропорциональна квадрату расстояния его от оси си стемы, поэтому при профилировании толщины оболочки в форме сферического пояса обратно пропорционально квадрату расстояния от оси вся оболоСоставитель О. СеменовТехред Л.Сердюкова орректор Л. Пилипенк айцева ктор ирзж 7 аказ 835 5 одписное ГКНТ СССР вниям и открытиям кая наб., д. 4/5 ВНИИПИ Государственного комитета по изо 113035 Москва, Ж, Ризводственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул. Гагарина,101 146430 а приобретает одинаковое ускорениесохраняет подобие формы. Таким обазом, оболочка в форме сферического пояса, закрепленная на электродах, Выполненных в виде усеченных конусовБ с образующими, направленными по радиусам из общей точки пересечения, позволяет избежать формирование кумуЛятивных струй вплоть до момента вы 1 ода оболочки на плоские участки ектродов, что повьппает эффективсть сжатия и нагрева предлагаемой азмы по сравнению с известной. 15Например, при радиусе оболочки ,5 см, массе оболочки 4 10 г, масе ЭТ-смеси 4 10 г, угле при верши-, е конусов 120,. радиусе малого осования каждого конуса 0,05 см, токе 10 А оболочка приобретает скорость 7 7 "10 см/с. Ударное сжатие нагреет Т-смесь до 800 эВ. Последующее адибатическое дожатие поднимет темпеатуру примерно до 10 кэВ. 2 э 34Формула изобретенияУстройство для получения плотной высокотемпературной плазмы, содержащее два электрода, профилированную по толщине цилиндрическую оболочку между ними, заполненную газовой смесью или термоядерным топливом, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения эффективности сжатия и нагрева плазмы, образующейся в результате ионизации газовой смеси или термоядерного топлива, электроды выполнены в виде усеченных конусов так, что образующие конусов пересекаются в одной точке, оболочка выполнена в форме пояса со сферической поверхностью, с центром, совпадащим с точкой пересечения образующих конусов, причем толщина оболочки обратно пропорциональна квадрату расстояния от оси системы, а начальный радиус оболочки превышает расстояние от точки пересечения конусов до границы плоских участков электродов.

Смотреть

Заявка

4157315, 05.12.1986

ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ А-1758

ШЕСТАКОВ ЮРИЙ ИВАНОВИЧ

МПК / Метки

МПК: G21B 1/00, H05H 1/00

Метки: высокотемпературной, плазмы, плотной

Опубликовано: 07.03.1989

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-1464303-ustrojjstvo-dlya-polucheniya-plotnojj-vysokotemperaturnojj-plazmy.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для получения плотной высокотемпературной плазмы</a>

Похожие патенты