Гелиоустановка

(50 4 1 24 1 2 38, 2 18 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯК А ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ(54) (57) ГЕЛИОУСТАНОВКА, содержащая установленную с возможностью поворота относительно вертикальной оси станину с каркасом, шарнирно закрепленным на ней с возможностью поворота относительно оси и имеющим центральное отверстие, и отражатель с деформатором, выполненным в виде съемной профилированной направляющей с ползуном, закрепленной на станине в плоскости, перпендикуляр- ф 801262214 ной горизонтальной оси поворота каркаса, и ведомого звена, шарнирно связанного с ползуном и установленного в центральном отверстии каркаса с возможностью воздействия на зеркальную поверхность отражателя, отличающаяся тем, что, с целью повышения стабильности сконцентрированного в направлении падающего излучения потока, она снабжена имеющим центральное отверстие криволинейным зеркалом, закрепленным на каркасе, отражатель выполнен в виде жестко связанного с каркасом герметичного сильфона, обращенное к криволинейному зеркалу дно которого выполнено из пленки, имеющей зеркальную поверхность, а ведомое звено выполнено в виде рамки, охватывающей сил ьфон и закрепленной на его удаленном от криволинейного зеркала дне.1262214 г ИИИПИили ал ПП аказ 5405133 Тираж 649 ПодписиПатент, г. Ужгород, ул. Проектная,Изобретение относится к гелиотехнике,в частности к гелиоустановкам с двухзеркальным концентратором.Целью изобретения является повышение стабильности сконцентрированного внаправлении падающего излучения потокапутем приложения распределенной нагрузкик деформируемой зеркальной поверхностиуменьшенной площади.На фиг. 1 показана конструктивнаясхема гелиоустановки; на фиг. 2 - фрагмент выполнения деформатора ее отражателя,Гелиоустановка содержит установленнуюс возможнотью поворота относительно вертикальной оси станину 1 (фиг. 1) с каркасом 2, шарнирно закрепленным на ней с возможностью поворота относительно горизонтальной оси и имеющим центральное отверстие 3 и отражатель 4 с деформатором 5, выполненным в виде съемной профилированной направляющей 6 с ползуном 7, 20закрепленной на станине 1 в плоскости,перпендикулярной горизонтальной оси поворота каркаса 2, и ведомого звена 8, шарнирно связанного с ползуном 7 и установленного в центральном отверстии 3 каркаса2 с возможностью воздействия на зеркальную поверхность 9 отражателя 4. Гелиоустановка снабжена имеющим центральное отверстие 10 криволинейным зеркалом .1 1,закрепленным на каркасе 2, отражатель4 выполнен в виде жестко связанного с каркасом 2 герметичного сильфона 12, обращенное к криволинейному зеркалу 11 дно13 которого выполнено из пленки, имеющейзеркальную поверхность 9, а ведомое звено 8(фиг. 2) выполнено в виде рамы 14, охватывающей сильфон 12 и закрепленной на егои35удаленном от криволинеиного зеркала 11дне 15,Каркас 2 и станина 1 связаны шарниром 16. Оражатель 4 закреплен на каркасе 2 кронштейнами 17. На станине 1 установлены фиксаторы 18 для направляющей 406. На каркасе 2 с тыльной стороны зеркала 11 закреплен приемник 19 излучения. Гелиоустановка работает следующим образом.По мере перемещения Солнца гелиоустановка осуществляет азимутально-зенительное слежение, его каркас 2 (фиг. 1) совместно с рамой 14 поворачивается вокруг горизонтальной оси, при этом ползун 7 перемещается по направляющей 6, В результате перемещения ползуна 7 рама 14 совершает поступательное движение относительно каркаса 2 и перемещает дно 15 сильфона 12. Давление газа в полости сильфона 12. изменяется, что приводит, в свою очередь, к изменению кривизны его дна 13 из пленки, имеющей зеркальную поверхность 9, увеличивая кривизну отражателя 4 при движении Солнца к линии горизонта и уменьшая ее при движении Солнца к зениту. В результате этого плотность сконцентрированного на приемнике 19 солнечного потока автоматически поддерживается постоянной при любом положении Солнца над линией горизонта. Поддержание постоянной плотности солнечного излучения на приемнике 19 при размещении его с тыльной стороны зеркала 11 путем изменения кривизны отражателя 4 вместо большого металлического или стеклянного зеркала 11 требует меньших механических усилий, создаваемых механизмом азимутально-зенитального слежения гелиоустановки и деформатором 5 отражателя 4, а также снижает вес гелиоустановки. Регулирование кривизны пленки путем изменения давления в полости сильфона 12 позволяет повысить точность поддержания постоянной плотности солнечного излучения по сравнению с гелиостатом, в котором изменяется давление на центральную точку пластины параболического зеркала, Применение регулиремого отражателя 4 позволяет также расширить диапазон конструктивных решений исполнения параболического зеркала и ассортимент используемых для его создания материалов.