Пустотообразователь

Номер патента: 457020

Опубликовано: 15.01.1975

Авторы: Бережной, Бокатий, Гончаров, Даньшин, Кононенко, Миллер, Подопригора, Шаповалов

МПК: G01N 25/02

Метки: зоне, конвейерной, обжига, окатышей, поверхности, слоя, состояния

...и рег 2ламентируется технологической картой в зависимости от типа концентрата, заданной основности и типа флюсующих добавок, При существующих способах контроля невозможно получать объективную информацию о состоянии поверхности слоя в зоне обжига, что затрудняет ведение процесса в оптимальном режиме.Предлагаемый способ контроля состояния поверхности слоя окатышей в зоне обжига основан на одновременном измерении и сравнении температуры газов под слоем и радиационной температуры слоя, что повышает производительность установки и обеспечивает получение окатышей высокого качества.Истинная температура материала определяется по формуле457020 Тн=Т,+ЛТ,Составитель С. Беловодченко Техред Г. Дворина Корректор Т. Добровольская Редактор Л. Тюрина...

Номер патента: 1294397

Опубликовано: 07.03.1987

Автор: Гончаров

МПК: B08B 9/032

Метки: внутренней, поверхности, полостей, трубных

...ством переходников 4 подсоединеныочищаемые трубы 5. Отверстия в кольцевом коллекторе могут располагатьсякак в его нижней части (фиг. 2),так и по периферии радиально (фиг. 1) 40В кольцевую полость коллектора моющую жидкость подают через патрубок2, а газ - через патрубок 3, Жидкостьзакручивается в кольцевом коллектореи на его внутренней поверхности образуется кольцевая пленка. Возможнадополнительная закрутка потока жидкости газом (по стрелке И) посредством установки в патрубке 3 завихрителя или разворота патрубка 3 относительно вертикальной оси. Через отверстия в кольцевом коллекторе газпродавливает моющую жидкость в трубы 5, н которых образуется кольцевой режим течения газожидкостной смеси,Для равномерного распределения жидкости и газа...

Номер патента: 127643

Опубликовано: 01.01.1960

Автор: Мицкун

МПК: B21D 17/00

Метки: ввода, внутрь, выдавок, деформирующих, заготовок, матрицы, пластических, поверхность, произвольного, путем, разъемной, сечения, созда, соответствии, стенках, стенок, труб, формой

...заготовок в соответствии с формой разъемной матрицы при создании давления на слой пластического материала, отл и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью уменьшения рабочего усилия для получения выдавок, заготовки с нанесенным внутренним слоем пластического материала помещают в открытую с обеих сторон матрицу, а затем путем протягивания клина сквозь заготовку создают давление на пластический материал,Редактор С. И, Зотов Техред А. А Камышникова Корректор Л. И. Самсонова Объем 0,18 изд. л. Цена 4 коп. и открытийФормат бум. 70 М 108/иТираж 850ЦБТИ при Комитете по делам изобретенийпри Совете Министров СССРМосква, Центр, М. Черкасский пер.,Подп. к печ. 15.Хг Зак, 11162 д. 2/6 Типография ЦБТИ Комитета по делам изобретений и открытий ярп Совете...

Номер патента: 942889

Опубликовано: 15.07.1982

Авторы: Пооль, Стрыжанков, Талако

МПК: B22F 7/04

Метки: диска, металлического, напрессовки, поверхность, порошкового, пресс-форма, слоя

...4 и 12, выполненными из эластичного материала (например резина, полиуретан), вверх относительно нижнего пуансона (до регулировочных упоров 5 и 11). Для регулировки высоты слоя засыпки порошка движение поршня 7 вверх ограничено регулируемым упором 19. 9 4Магазин 20 поштучной выдачи металлических дисков, установленный позадипитателя 21, представляет собой кассету (не обозначена) с двумя эксцентричнорасположенными отверстиями д и с 3,равными наружному диаметру металлического диска 18, причем глубина нижнегоотверстия равна двум толщинам диска(21 ), а глубина верхнего такова, чтопод ним оставлено тело магазина толщиною в один диск ( Я "Ф, ) . Сопряженные части обоих отверстий соединенымежду собой пазом. В задней стенке (не...

Номер патента: 1615541

Опубликовано: 23.12.1990

Авторы: Зимин, Кулагин, Пушкин, Улыбин, Шишкин

МПК: F42D 3/04

Метки: взрывного, грунтов, дневной, наличии, поверхности, породы, прилегающей, разрушения, разрыхленной, слоя

...по сравнению с нижней частью, равным времени прохождения детонационной волны по детонирующему шнуру от верхнего заряда до боевика и от боевика по заряду до его верхнего торца. Заряжение скважин производят так, что удельный расход ВВ при расчете массы верхней части заряда находится в пределах О,2 - 0,18 кг/м.Забойку устья скважин инертным материалом не производят.При использовании предлагаемого значения удельного расхода ВВ верхней части заряда и наличии замедления между взрыва1615541 формула изобретения Составитель Н. ЧернухаРедактор И. Шмакова Техред А. Кравчук Корректор О. КравцоваЗаказ 3979 Тираж 389 ПодписноеВНИИГ 1 И Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж - 35, Рау шская наб., д....