Объектив с увеличением-о, 5

ПИСАНИ БРЕТЕН Н АВТОРСКОМУ ДЕТЕЛЬСТВУ УВЕЛИЧЕНИЕМ -05ложительных комкоторых выполненрицательной иотличаю.с целью улучшения(54)(57) ОБЪЕКТИВсостоящий, из двухпонентов, второй ндвухсклеенным, изположительной линзщ и й с я тем, что ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТ(56) 1. Патент ФРГ Р 2714497,кл. 6 02 В 13/24, опублик, 19772. Авторское свидетельство СССР 279099, кл. О 02 В 21/02, 1969(прототип) качества изображения, увеличения ли нейного поля, рабочего расстояния и обеспечения возможности введения апертурной ирисовой диафрагмы внутрь .объектива, первый компонент выполнен нз одиночного отрицательного мениска, обращенного вогнутостью к объекту, и двухсклееной положительной линзы, состоящей из отрицательной и положительной линз, при этом линзы компонентов выполнены из стекол с разно" стью показателей преломления порядка 0-0,08, разностью коэффициентов показателей преломления дисперсии 0-23 и расстояние между компонентами составляет величину, равную сумме их Фокусных расстояний. ЗЗаказ 3012/55 Тираж 509 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж,.Раушская наб д. 4/5Филиал, ППП Патент г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к объективам, и может быть использова. - но в оптико-механических приборах, в мнкропроекторах, где для наблюдения протяженных объектов сложного профиля необходимы объективы малых увеличений с большими линейными полями, рабочими расстояниями и точностью измерения порядка единиц микрон.Известен объектив малого увеличе ния, состоящий из двух компонентов, симметрично .расположенных относительно апертурной диафрагмы и состо" ящих иэ положительной и отрицатель" ной линз 1 1 . 15Известен объектив с увеличением -0,5 ф, состоящий из двух положительных компонентов, второй из которых выполнендвухсклеенным из отрицательной.и положительной линз 2 320Однако объектив имеет при достаточно хорошо исправленной сферической аберрации и комы значительную величину хрОматизма, крйвизны изобра- жения и дисторсии, кроме того, объектив обладает недостаточной величиной линейного поля, рабочего рассто" яния и отсутствием. возможности установить апертурную диафрагму внутри объектива.Целью изобретения является улучшение качества изображения, увеличение линейного поля, рабочего рас:стояния и обеспечение возможности введения апертурной диафрагмы внутрь рбъектива. .. 35Поставленная цель. достигается тем, что в объективе с увеличением -0,5, состоящем из двух положительных компонентов, второй из которых выполнен 40 двухсклеенным из отрицательной и положительной линз, первый компонент выполнен иэ одиночного отрицательного мениска, обращенного вогнутостью к объекту, и двухсклеенной положительной линзы, состоящей иэ отрицательной и положительной линз, при этом линзы компонентов выполнены иэ стекол с разностью показателей прелом.ления порядка 0-0,08, с разностью коэффициентов дисперсии порядка 0-23 и расстояние между компонентами составляет величину, равную сумме их Фокусных расстояний.На чертеже представлена принципиальная оптическая схема объектива,Объектив содержит отрицательный мениск 1, выпукло-вогнутую линзу 2, склеенную с двояковыпуклой линзой 3, причем 1-3 образуют положительный компонент 4, положительную линзу 5, склеенную из двояковыпуклой линзы б и вогнуто-выпуклой линзы 7, апертурная диафрагма 8 расположена в общей Фокалвной плоскости компонентов.Объектив ебладает высоким качестьвом изображения как в центре поля, так и на краях его, большим линейным полем, большим рабочим расстоянием и телецентрическим ходом лучей на входе и выходе. У объектива при линейном поле У=-б,0 мм и рабочем расстоянии 8=-72 мм хроматизм увеличения равен 0,4, кривизна иэображения 0,02 мм, дисторсия - 0,001 мм. Относительное отверстие объектива 1:4,5.Это позволяет использовать его для совместной работы с основным объек- тивом микропроектора, предназначенного для изготовления микросхем и ;деталей сложного профиля для исследования фотопластин и пленок с высокой точностью измерения порядка 2-4 мкм и с увеличением 20-100 ф.