Маскирующий материал для фотоформ

Номер патента: 1479489

Авторы: Брик, Молочко, Потиевская, Слотвинская, Шепотинник

ZIP архив

Текст

(5 0927/02, СО ДНИ РЕТЕНИ ДЕТЕЛЬС ТОР СНОМ ти в кач монтажеи отофор о копи обеспе для позитив вания, Изоб ть возможно о и ени ега тив озволя ьным ь ого использования ма таже фотоформ и посл ер-и огократ е копилек ла при м ТОИзо етение о ующего м осится к иериала, исглубокой л ию мас ечао сетнои эуе аскирую овоф г атериала и глубок используе но печати вении монт ачестве ма ки при выпдля позитив жей фотофо тивного коЦель из ого и негаовдния,етения - об печениеиспользовафотоформ озможности ия материа огократног а при монтажрования и после коп В табл,1 материалы иедс зоб тдвлены маскирующиере тению, в табл, 2 ачестве пл масла индустри трансФорма торсебациновоидибутилсебаи их смесь в качестве стаих своиства,В качеств пользуют иле в качестве и 150 мкм, что покровных и толщино енок ис 8-45 мк ой 70- ехнолог ложк и толщибусловлено ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИПРИ ГКНТ СССР(71) Киевский филиал по специавидам печати Всесоюзного научнследовательского института комныхпроблем полиграфии(56) Авторское свидетельство СУ 958459, кл. С 09 1 7/02, 198Патент США У 3810812,кл. В 44 Р 1/06, опублик. 1974(54) МАСКИРУЮЩИЙ МАТЕРИАЛ ДЛЯ ФФОРМ зобретение относится к получению тве маски при выполнении рования за счет использования клеевого покрытия, содержащего, мас .ч .: сополимер бутадиена со стиролом или еС-метилстиролом. 100; глицериновый эфир канифоли 5-50; плдстификатор 0,.5-30,0; полиэтиленовый воск или церезин 3-10; стабилизатор 0,5-2,0 и продукт взаимодействия дидзотиро ф ванного метааминоазотолуолд с Р -ндфтолом 2-6, В качестве подложки в ма териале используют полиэтилентетрафталатную пленку, в качестве покровной пленки - триацетатцеллюлозу .или полиэтилентерефталдт, 2 табл,ческ ими особ еннос тями изго товления июЬиспользования материала,В клеевом покрытии: в качестве со- фполимера используют сополимер бутадие. ффна со стиролом или Ы -метилстиролом Мрадикальной полимериздции с содержа- Снием стиролаили о -метилстирола 20 ЗОЕ, марок, СКС-ЗО, АРКП, СКМСАРКПН,СКМСРП, ДСТ-ЗО, ДМСТ; в качестве воска используют церезин или полиэтиленовый воск; в тификатора используют альные - вазелиновое, ное, эфиры фталевой и кислот - дибутилфтдлдт цинат 1 хлорпдрафин, ил любом соотношении;. в3147 билиэлторл используют диметил (4-фениламинофенокси) силан, бис(3,5-дитрет-бутил-гидроксибензил) сульфид, диметилбис 14- (нафтил) амино 1 фенокси 1 силен; 2,1-метиленбис сб-третбутил.-метилфенол); продукт взаимодействияя диазотированного метааминоазотолуола с-нафтолом описывает ся формулой9489 10 жимаия 180 скорости движения нижнего 5 100 мм/мин и угле расслаивПолученный в соответствии с изобретением маскирующий материал обллдлет комплексом тлких лдгезионно-когезионных показателей, которые обеспечивают съемному слою (покровной полимерной пленке с клеевым покрытием) отделение от подложки беэ разрыва клеевого слоя и оценивается показателем сопротивления отслаиванию съемного слоя от подложки.Сопротивление отслаиванию определяли на разрывной машине РМБприДля получения маскирующего мате"риала на покровную полимерную пленкунаносят на клеенаносной машине с помощью ракельного устройства предварительно изготовленный клеевой состав,который сушат в сушильной камере при90-150 С в течение 1-2 мин и дублируют с подложкой,Толщина готового маскирующего материала 110220 мкм.Клей готовят в смесителе с пропеллерной мешалкой при температуре неОвыше 50 С, куда загружают растворитель (бутилацетлт, бензин, о-ксилол, 30толуол или их смесь в любом соотношении), стабилизатор, продукт взаимодействия диаэотировлнного метааминоазотолуола с Р -нафтолом и, послетщательного перемешивания, сополимер бутадиена со стиролом или оС "метилстиролом, После их растворениязагружают. остальные компоненты согласно рецептурам табл.1 и перемешиваютдо получения однородного состава,В соответствии с изобретением маскирующий материал используют в качестве маски при выполнении монтажныхработ, для чего лист маскирующего материала помещают на монтаж фотоформ.Режущим инструментом надрезают поконтуру Фотоизображений съемный слой(покровная полимерная пленка с клеевым покрытием) и удлляют его.В результате получают позитивнуюили негативную маску, после чегоосуществляют копиронлние,При корректировке контуров полученной маски снятый съемный слой повторно приклеивлют к подложке и после копирования маскирующий материалсохраняет свои лдгезионно-когезионные показатели, что позволяет исполь-,зовать его повторно, Сопротивления отслаиванию посл копирания определяли в жестких условиях. Для чего из образца маскирующего материала вырезали полоски размером 10 х 150 мм, снимали сьемный слой(покровная полимерная пленка с клеевым покрытием) и .облучали клеевоепокрытие на приборе ОКНлучамиртутно-кварцевой лампы ПРКнл расстоянии 20 см в течение 15 мин, Затем образцы прикатывали валиком весом 5 кг и через бО мин проводилииспытание,а. иэоб ения атериал для фотоформ,щий Маски сос тоящииэ и имернои подложки, на основе синтетии трилцетатцеллюлоз клеевого покрыти ческого каучука, ной или полиэтил кровной пленки, с я тем, что, с ентере талл тнои поо тличлющии целью обеспечения ократного использопри монтаже фотоформ воэможности мно вания материала Сополимер б стиролом ил лдиенл сс Ы -метилстироломГлицериновый эфир канифолиПластификатор- 50- 30,0олиэтиленовыи во 3-10 или цереэинСтабилизатор О,-2,0 род т одеис тв ия ного меолл с диа зотирова лминоазотол-на тол и после копирования, полимерная подложка выполнена из полиэтилентерефтллатной пленки, клеевое покрытие выпол нено из композиции, содержащий,мас,ч:300 100 300 300 300 100 100 100 100 70 ПЭТФ ПЭТФ ПЭТФ ПЭТФ Триац, Триац, Триац,45 18 35 25 35 35 35Сополимер бутадиена сотиролом:СКСАРКПСКМСРПДСТ ДМСТ(е-метилстиролом)Глицериновый эфир канифолиТрансформаторное масло 0 Вазелиновое маслоДибутилфталатХлорпарафинДиметил (4-фениламинофенокси)силанБис (3,5-ди-трет-бутил 4-гидроксибензил) суль фид2,2 - метиленбис (6-третбутил-метилфенол) БерезинПолиэтиленовый воск 4 Продукт взаимодействия, диазотированного метааминоазотолуола с Ь -нафтоломДиметилсилоксановый кауч к - СКТН-ГОлигометилсилоксанПМС БензинБ утилаце та тОрто ксилолПодложка (.толщина,мкм) (ПЭТФ)Покровная пленкатолщина, мкм Содержание по примерам, мас,ч, Т ГТ Т 1 2 3 4 5 к бк 71479489 Таблица 2 Клеевая компози Показатели сопротивления отслаиванию, Н/м иияио приПосле3-кратПервоначальПослекопирования мерам ногопереклеиваное ния 23 30 40 60 25 31 40 67 27 32 42 70 12345 (контрольная) 9 6 (контрольная) 14 7 35 Известный 25 2 31% ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при К СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5

Смотреть

Заявка

4223682, 23.02.1987

КИЕВСКИЙ ФИЛИАЛ ПО СПЕЦИАЛЬНЫМ ВИДАМ ПЕЧАТИ ВСЕСОЮЗНОГО НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКОГО ИНСТИТУТА КОМПЛЕКСНЫХ ПРОБЛЕМ ПОЛИГРАФИИ

ПОТИЕВСКАЯ СОФИЯ АРКАДЬЕВНА, СЛОТВИНСКАЯ ЛЮДМИЛА ИВАНОВНА, ШЕПОТИННИК ЛЕОНИД СЕМЕНОВИЧ, БРИК ЛАРИСА НИКОЛАЕВНА, МОЛОЧКО ВАЛЕРИЙ МАРКОВИЧ

МПК / Метки

МПК: C09J 7/02, G03F 3/06

Метки: маскирующий, материал, фотоформ

Опубликовано: 15.05.1989

Код ссылки

<a href="https://patents.su/4-1479489-maskiruyushhijj-material-dlya-fotoform.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Маскирующий материал для фотоформ</a>

Похожие патенты