C23C 14/32 — с использованием взрыва; испарением и последовательной ионизацией паров

Устройство для высокочастотной электроимпульсной обработки металлов

Загрузка...

Номер патента: 208766

Опубликовано: 01.01.1968

Авторы: Лившиц, Экспериментальный, Кравец, Бурда

МПК: C23C 14/32

Метки: высокочастотной, металлов, электроимпульсной

...осуществляется при помогци междулампового трансформатора 36, сердечник которого набран из пластин толщиной до 0,1 мм,С двух вторичных обмоток трансформатора 86 напряжение в противоположных фазах подается на оконечный каскад усилителя мощности, собранный на четырех пентодах 87, 88 и Л, включенных по двухтакгной схеме, по две лампы в плече 40,Оконечный каскад усилителя мощности работает в режиме с сеточными токами. Сетки ламп во избежание самовозбуждения развязаны между собой сопротивлениями 41, 42, 48 и 44.В качестве утечки ламп использованы сопротивления 4 д, 46, 47 и 48., Питание на экранные сетки ламп 87 - 40 подается через сопротивления 49 - 60. Между сетками и катодами ламп включены конденсаторы 61 и 62,Цепи анодов оконечного...

245253

Загрузка...

Номер патента: 245253

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Отдел, Плескачевский, Купчинов, Сысоев, Егоренков, Белый

МПК: C23C 14/32

Метки: 245253

...осуществления дорогого и сложного оборудования и не дают желаемых результатов в отношении прочности, однородности покрытия и его адгезии к подложке,Цель предлагаемого способа - повышение однородности покрытия и его адгезии к изделию. Это достигается использованием явления так называемого взрыва тонкого металлического элемента (проволоки), заключающегося в пропускании тока большой плотности через указанную проволоку. Вследствие быстрого разогрева до температуры, превышающей температуру сублимации металла, проволока мгновенно испаряется, Характер процесса аналогичен взрыву. Давление взрыва исключительно равномерно распространяется по всей длине проволоки.В предлагаемом способе используется металлическая проволока, покрытая слоем...

247001

Загрузка...

Номер патента: 247001

Опубликовано: 01.01.1969

Автор: Йото

МПК: C23C 14/32, C23C 14/42

Метки: 247001

...поле в ся симметричным, в среднем 10 поле анода не влияет на си не нарушает равномерноки. 5 Уст ан ния, со ку, мп ионизац что, с 0 щины о струкцг в виде то,дов, распыле- подложриала ияся тем, ости толения коныполнена -термокаовка для понно-плазменного держащая вакуумную камеру шень из распыляемого мат ионную систему, отличающ целью обеспечения равномерн саждаемой пленки и упрощ и, ионизационная сисгема двух одинаковых электродо Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий,Известна установка для ионно-плазменного распыления, содержащая вакуумную камеру, подложку, мишень из распыляемого материала и ионизационную систему,Предложенная установка отличается тем, что ионизационная система выполнена в виде двух...

Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 259597

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Калверш, Дмитриев, Специальное, Соколов, Бурцев, Хеймансон, Зеберинь

МПК: C23C 14/32

Метки: покрытий, вакууме, нанесения

...закрепленный в токоподводящих водоохлаждаемых губках, и механизм подачи испаряемого металла.Предложенное устройство отличается от известного тем, что оно интенсифицирует процесс испарения, и испаритель выполнен из пористого материала.На чертеже представлен общий;вид устройства.Устройство состоиг из испарителя , закрепленного в токоподводящих водоохлаждаемых губках 2, и механизма подачи 3 испа(ряемого металла.Испартпель при пропускании через него электрического тока нагревается до температуры испарения алюминия, На верхнюю поверхность испарителя непрерывно подается напыляемый материал, например алюминий, в возвратно-поступательном движении, котон, А, 3. Калверш, А, Г, ЗебериЮ, Д, Дмитриевое бюро вакуумных покрытий( -рый...

271992

Загрузка...

Номер патента: 271992

Опубликовано: 01.01.1970

МПК: C23C 14/32

Метки: 271992

...вьцилненный в виде цилиндра 2, внутри которого закреплен катод 8 в виде спирали, ось которой совпадает с осью цилиндра 2, служащего одновременно анодом.В рабочую камеру 4 устанавливают барабаны 5 с подложками б, а в распылитель 1 - распыляемый материал 7. После этого в рабочей камере 4 производится откачка всего объема до предельного вакуума с последующим напуском инертного газа в ионные источники до рабочего давления в пределах 1 10 в - 110 4 мм рт. ст. При подаче соответствующих напряжений между анодами 2 и катода. ми 8 возникает дуговой разряд. При подаче на распыляемый электрод 8 напряжения ионы газа ускоряются в электрическом поле между анодом и распыляемым электродом 8 и 5 бомбардируют распыляемый материал 7, в результате чего...

Всгсоюзная -т-игф •. •4мурймi л й г rtu s а«” s “dhb. woteka

Загрузка...

Номер патента: 312426

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Иностранец, Иностранна

МПК: C23C 14/32

Метки: а, •4мурймi, всгсоюзная, woteka, dhb, т-игф

...трубопровод для подачи газа. Это повышает производительность труда и увеличивает адгезию пленок к подложке.На чертеже изображено предложенное уст ройство, общий вид.Устройство включает вакуумную камеру 1, внутри которой расположены электроды, выполненные в виде катушки индуктивности 2, изготовленной из напыляемого материала, на 20 продолжении оси которой расположен трубопровод 3 для подачи газа.Напряжение высокой частоты подается с генератора 4 через повышающий трансформатор б на катушку индуктивности 2. Частоту 25 генератора 4 можно изменять емкостью 6 в пределах от 2 до 30 мги. Генератор 7 постоянного тока высокого напряжения подключен своим отрицательным полюсом к покрываемой детали 8, а положительным полюсом - к стенке вакуумной...

Источник ионов

Загрузка...

Номер патента: 355253

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Беккер, Храброе, Заумыслов, Заболотнов

МПК: C23C 14/32

Метки: источник, ионов

...й технике.В известном источнике ионов, содержащем спиральный накальный катод и соосно расположенный с ним цилиндрический анод, плотность ионов в разряде мала.Предлагаемый источник позволяет увеличить плотность ионов в разряде за счет того, что анод расположен внутри спирали катода.На чертеже представлен предлагаемый источник, ионов, содержащий цилиндрический анод 1, спиральный накальный катод 2, вакуумную оболочку 8. Анод расположен внутри спирали катода. Ток накала катода поддержиаппаратуре длк ускорительно вает температурууровне и одновремле, требуемое длянов в плазме разрдом. 2,н здае ения жду определенном магнитное полотности иоатодом и аноенно с увели яда м 1 ет изобретени 0 Источник исодержащий р асположенн анод, отличичения...

Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 396450

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Урь, Владимиров

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, покрытий, нанесения

...выподключенных к источинапряжения пластинртикально и образую, располоненным в ку 2 высо- смонтищих щель Устркенцо виде д коволь ровагн 1 Изобретение относится к области нанесения покрытий в важууме и может быть прцмене о прц производстве интегральных схем.Известно устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее дозатор, расположенный над иопарителем, выгполцецным в виде горизонтально расположенной пластины.В таком устройстве це исключается влияние материала испарителя ца состав покрытия.Цель изобретепия - исключецце этого вли ЦЦ 5.В предлагаемом устройстве для нанесен )я покрытий в вакууме иопаритель выполнен я виде двух подключенных к источнику высоко- вольтного напряжения пластин, смонтированных вертикальцо и образующих...

Способ ионно-плазменного напыления и устройство для его осуществления

Загрузка...

Номер патента: 1414878

Опубликовано: 07.08.1988

Авторы: Минкин, Петраков, Баркдон, Балыкин, Домрачев, Шагун

МПК: C23C 14/32

Метки: ионно-плазменного, напыления

...инертного газа аргона до давления 0,7-0,9 Па производят, откачку активных газов посредством магнетронного насоса с титановой мишенью. Для этого на магнетрон подают рабочее напряжение 400-500 В и устанавливают ток разряда 1-1,2 А,Так как титан обладает геттерирующимдействием по отношению к активнымгазам, в течение 30-40 мин обеспечивается откачка вСех остаточных газов,кроме аргона, при этом о степениоткачки судят по цвету разряда в магнетроне. Зелено-голубой цвет плазмыразряда свидетельствует о полномпоглощении остаточных газов, кромеаргона, после чего ток разряда целесообразно понизить до 0,2-0,3 А дляобеспечения экономичного иснользова"ния татановой мишени. Если послеудаления активных остаточных газовдавление в вакуумной камере...

Устройство для нанесения покрытий взрывом фольги

Загрузка...

Номер патента: 774276

Опубликовано: 15.02.1989

Авторы: Туманов, Тимошенко, Яковлев, Логоватовский, Снесаревский, Хозиков

МПК: C23C 14/32

Метки: взрывом, нанесения, фольги, покрытий

...процесса за счет того, что геометрия сопел и электродов поддерживается постоянной и отпадает необходимость прекращать процесс для замены или чистки сопел и электродной системы, Зачистка электродной системы производится.плоским ножом, скользящим ре"жущей кромкой по рабочей поверхности система. Наличие перемещающегося :центрального электрода в электродной системе, компенсирующего эрозию его в процессе работы, повьппаетпроизво 764дительность устройстна и стабильность процесса.Отнерстия на цилиндрической поверхности подвижных сопел для выхода отраженной нолны обеспечивают такие условия осаждения покрытия, при которых отражение потока продуктов взрыва минимально, и соответственно увеличивается коэффициент использования взрываемого...

Способ изготовления режущего инструмента из быстрорежущей стали и твердого сплава с износостойким покрытием

Загрузка...

Номер патента: 1465463

Опубликовано: 15.03.1989

Авторы: Гаврилов, Курбатова, Галицкая, Синельщиков, Жедь

МПК: C23C 14/32

Метки: быстрорежущей, стали, сплава, режущего, твердого, покрытием, износостойким, инструмента

...разложения соли,. так как соль не успевает разложиться и расплавиться,При достижении на поверхности инструментальной основы температуры карбидизации материала катода в камеру подают газ-реагент, создавая в ней давление 6,67-6,67 10 з Па и одновременно снижают напряжение смещения на режущем инструменте до 25-750 В и вьдерживают его в камере до получения иэносостойкого покрытия заданной толщины. При конденсации многослойных покрытий используют попеременное подключение нескольких катодов, выполненных из различных металлов кли из сплавов, и введение соответствующих газов-реагентов, входяших в состав чередующихся слоев.При использовании при конденсации покрытий напряжения смещейия на режущем инструменте менее 25 В повевхность его быстро...

Износостойкое покрытие и способ его получения

Загрузка...

Номер патента: 1495390

Опубликовано: 23.07.1989

Авторы: Курбатова, Боярунас, Синельщиков, Соколовская, Божуков, Гаврилов, Жедь

МПК: B23P 15/28, C23C 14/32

Метки: покрытие, износостойкое

...выполнены иэ легированных тугоплавких соединений различного состава, но при этом каждый слой должен быть выполнен иэ наиболее термодинамически стабильного соединения того или иного состава (различные материал катода и газ-реагент). Это придает покрытию описан-ные свойства. Кроме того, такое многослойное покрытие позволяет испольненного из элементов материал покрытия (при использовании одного катодаили в виде дополнительного катода,выполненного из самого катализатораили при необходимости из сплава нескольких катализаторов (в случае конденсации покрытия из нескольких Фазвнедрения, галогенидов, халькогенидовипи их сочетаний) .Разогрев рабочей поверхности основы осуществляют до температуры, на40-50 С ниже температуры плавлениянаиболее...

Испаритель

Загрузка...

Номер патента: 1145692

Опубликовано: 07.11.1990

Авторы: Гусев, Баскаков, Матвеев

МПК: C23C 14/32

Метки: испаритель

...изображен испаритель, общий вид; на фиг.2 - вектор напряженности поля в координатной плоскости. щИспаритель содержит первый электродв виде тигля 1 выполненного в видеполусферы с внутренним радиусом К,равным межэлектродному расстоянию Ь,с помещенным в него испаряемым вещест-)5вом 2, На наружной поверхности тигля1 установлен нагреватель 3, защищенный теплоизоляционным материалом 4.В зависимости от испаряемого веществанагреватель 3 может быть установлен 30и по.внутренней поверхности тигля 1,Над тиглем 1 по центру расположен ввторой электрод, выполненный в видестержня 5, Тигель 1 и стержень 5 соединены с источником 6 высокого напряжения (ИВН). В качестве испаряемоговещества 2 используются диэлектрические жидкости, но могут использоваться...

Устройство для нанесения металлических покрытий

Загрузка...

Номер патента: 377045

Опубликовано: 07.11.1990

Авторы: Пеккер, Давыдов, Жилов, Минайчев

МПК: C23C 14/32

Метки: покрытий, нанесения, металлических

...устройство для нанесения металлических покрытий, содержащее вакуумную камеру, внутри которой расположены испаритель в виде электрода и приспособление для подачи расп" лавленного металла на электрод.Предлагаемое устройство отличает" ся от известного тем, что, с целью повышения скорости процесса покрытия частиц сыпучего материала,приспособЛение для подачи металла на электрод выполнено в виде кольцевого лотка, дно которого снабжено соплами для вытекания струек металла, причем корпус кольцевого лотка электрически подсоединен к электроду через импульсный генератор. Для нанесения многослойных покрытий кольцевые лотки расположены последовательно один над другим. На чертеже схематично изображенопредлагаемое устройство.Устройство...

Установка для нанесения покрытий взрывом

Загрузка...

Номер патента: 1675382

Опубликовано: 07.09.1991

Автор: Аштраускас

МПК: C23C 14/32

Метки: взрывом, нанесения, покрытий

...данной установки является низкое качество покрытия, так как в результате взрыва проволоки сторона изделия, расположенная против электродов, покрывается слоем расплавленного металла, толщиной 1- 1,5 мм, а противоположная сторона - тонкой пленкой, толщиной 0,01 мм.Это объясняется тем, что ток на проволоку подается с одной стороны, неравномерно нагревая ее.Целью изобретения является повышение качества покрытия.Поставленная цель достигается тем, что установка для нанесения покрытий взрывом проводника, содержащая механизм подачи проволоки с направляющими, источник питания и систему токоподвода с электродами, снабжена высоковольтным трансформатором, подключенным к прово 5 10 15 20 25 30 35 локе и электродам, а электроды выполнены в...

Установка для металлизации

Загрузка...

Номер патента: 1675383

Опубликовано: 07.09.1991

Автор: Аштраускас

МПК: C23C 14/32

Метки: металлизации

...ул.Гагарина, 101 Изобретение относится к металлизационным установкам для нанесения металлических покрытий на внутреннюю поверхность токопроводящих деталей методом электрического взрыва проводника, установку целесообразно использовать на металлообрабатывающих заводах для улучшения физико-механических свойств внутренних поверхностей, а также на ремонтных заводах для восстановления изношенных внутренних полостей деталей.Целью изобретения является повышение качества покрытия.На фиг. 1 показана схема установки; на фиг. 2 - сечение А-А на фиг. 1.Установка состоит из механизма 1 для подачи проволоки 2, перед которым установлены ролики 3 для выравнивания проволоки. Электроды 4 и 5 подключаются к источнику 6 тока. Компенсатор 7 магнитного...

Способ нанесения покрытий взрывом проводника

Загрузка...

Номер патента: 1707085

Опубликовано: 23.01.1992

Авторы: Аштраускас, Дромантас, Раманаускас, Дамбраускайте

МПК: C23C 14/32

Метки: проводника, нанесения, взрывом, покрытий

...и улучшение качества покрытий путем увеличения площади поперечного сечения взрываемого проводника.На чертеже показано устройство. с помощью которого реализуется способ нанесения покрытий взрывом проводника.Устройство содержит электроды 1, соединенные с источником 2 импульсного тока, причем полый проводник 3 к электродам подается из бункера 4. Деталь 5 закреплена базирующим устройством б. Устройство снабжено вибратором 7. Высоковольтный трансформатор 8 подключен в пространство между проводником 3 и электродами 1, бункер 4 закрывается заслонкой 9,П р и м е р. Полый проводник 3 иэ бункера 4 подается в межэлектродное пространство во внутреннюю полость детали 5. Электроды.1 окружены атмосферой ионизированного воздуха. Ионизация...

Устройство для нанесения покрытий взрывом проводника

Загрузка...

Номер патента: 1708916

Опубликовано: 30.01.1992

Авторы: Дудко, Аштраускас, Приймачек, Дромантас

МПК: C23C 14/32

Метки: взрывом, нанесения, покрытий, проводника

...следующим образом.Проводнику (проводник) 3 механизмподает через направляющую втулку 5братушку 12, бункер 9 и отверстия,оторые образуют глобойдные контактыдо упора в приемнике б, центрирующего проволоку 3. Деталь 7 крепитсяе базирующем устройстве так, чтобыВе ось совпадала с осью взрываемойпроволоки При нажиме на кнопку 11управления из высоковольтного транс-:форматора 10 (30 КВ) ток подаетсяпространство между проволокой 3электродами 1. Высокое напряжениеэлектрического тока пробивает этоВоздушное пространство, ионизируявоздух, который становится электройроводящим, и электроэнергия, накопленная в конденсаторной батарее,протекает между электродами 1 и проволокой 3, разрушая ее, а вместе с.ней и легирующие добавки, которые привзрыве...

Устройство для нанесения покрытий взрывом проводника

Загрузка...

Номер патента: 1708917

Опубликовано: 30.01.1992

Авторы: Дромантас, Аштраускас, Приймачек, Дудко

МПК: C23C 14/32

Метки: проводника, нанесения, покрытий, взрывом

...1 ил,Трубка 3 из бункера 4 подается через направляющую 5 между электрод. мив упор 6, центрирующий трубку 3. Покрываемая деталь 7 крепится в бази. рующем приспособлении 8 так, чтобы ее ось совпадала с осью взрываемой трубки 3. При нажатии на кнопку 1 управления из высоковольтного трансФорматора 1 О (например, 30 кВ) ток подается в пространство между трубкой 3 и электродами 1 Высокое напря жение электрического тока пробивает это воздушное пространство, ионизируя воздух, который становится электро- проводящим, и электроэнергия, накопленная в источнике 2 (конденсаторной батареи), протекает между электрода-. ми 1 и трубкой 3, взрывая ее, а вместе с ней и частицы неэлектропроводящих. добавок, наполняющие трубку 3. Трубка 3 снабжена...

Устройство для нанесения покрытий взрывом проводника

Загрузка...

Номер патента: 1708918

Опубликовано: 30.01.1992

Авторы: Аштраускас, Дромантас, Дамбраускайте, Раманаускас

МПК: C23C 14/32

Метки: покрытий, проводника, нанесения, взрывом

...к проволоке 2 через электроды 6, и низковольтный трансформатор 8, подклю.ченный к проволоке 2, Покрываемая деталь 9 закреплена в баэирующем устройстве 1 О.Работа, устройства осуществляетсяследующим образом.Проволока 2 с пом1 подачи подается че3 между электродамиполость детали 9. По9 крепится в базирующем устройстве так, чтобы ее ось совпадала с осью взрываемой проволоки 2. Проволока 2, подклоченная к низковольтному транс 5 форматору 8, нагревается до температуры плавления. Из высоковольтного трансформатора 7. через систему 5 токоподвода в пространство между проволокой 2 и электродами б подается 10 ток. Высокое напряжение электрического тока пробивает воздушное пространство, ионизируя воздух, который становится электропроводящим, и...

Способ получения пленок на основе углерода

Загрузка...

Номер патента: 1710596

Опубликовано: 07.02.1992

Авторы: Патон, Мовчан, Стеценко, Чуйков

МПК: C23C 14/32

Метки: основе, пленок, углерода

...ванну, для чего на расходуемой поверхности графита расплавляют навеску, содержащую вольфрам и/или молибден, при этом образовавшийся расплав исполь зуют в качестве термокатода дугового разряда. Наличие расплава на расходуемой поверхности графита способствует образованию интенсивного и равномерного пэрового потока углерода, вследствие 10 растворения графита в расплаве и последующего преимущественного испарения углерода из расплава в силу разницы в упругости паров углерода и материала расплавляемой навески. Кроме того, 15 вследствие конвективного перемешиваниярасплав имеет высокую и практически одинаковую температуру по всему объему, что в сочетании с высокими эмиссионными свойствами расплава способствует поддер жанию сильноточного и...

Устройство для ионно-плазменного распыления ферромагнитных материалов

Загрузка...

Номер патента: 1580866

Опубликовано: 07.02.1992

Авторы: Жданов, Рубанов, Сордия, Суладзе

МПК: C23C 14/32

Метки: ферромагнитных, ионно-плазменного, распыления

...материкобальта, закрепленную вемом держателе 2. Мишеньвненей тонкостенной втулединенной с мишенью с образухого замкнутого паза 4, Вой части мишени выполненовгрстие 5, соосно с которым лена в отвго кранавой цели 8срез экранне, а рябонадторцом(анода ) 9и 11, Подлдля закрепл ишень установлектроизолированн зованием кольцеторец втулки 3 дятся на одном ур ь мишени выступае Снаружи корпусаны соленоиды 1012 служит15808 б 5 Составитель С.МирсшкинРецахтор И.Кузнецова Техред И,Ходаич К.рректор С,Черни Заяз 1 303 ВНИ 1 ПИ Гссудар Подписноетета по изооретениям и открытиям при ГКНТ СЧСРква, И, Раушская наб., д. 4/5 Тира, нного ко 3035, Мо Проиэводстэенноательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул, Гагаргна 101Ф 10 н 11 обеспечивается формироваиие и...

Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 1751224

Опубликовано: 30.07.1992

Авторы: Деркач, Борисенко, Саенко, Горюк

МПК: C23C 14/32

Метки: нанесения, вакууме, покрытий

...схем,Целью изобретения является расширение технологических, возможностей за счет повышения равномерности покрытий при обработке больших поверхностей.На чертеже схематически представлена конструкция устройства для нанесения покрытий.Устройство состоит из водоохлаждаемаго тигля-анода 1, пряманакального вольников электропитания 9 - 11.Устройство для нанесения паботает следующим образом,Испаряемое вещества загругель-анод 1, от источника 11 вклкал катода 2, с помощью соленосоздается магнитное поле в абланых электродов, затем подаетсние на вспомогательныйэлектрод 6 ат источника 9, Приисточника питания 10 зажигаетспарах исларяемага вещества, прСоставитель С.Мирошкивыдкая;, Техред М.Моргентал1 Кравчук Редактор ект аказ 2666 , Тираж...

Устройство для ионно-плазменной обработки подложек в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 1405361

Опубликовано: 30.08.1992

Авторы: Кричков, Сергеев, Глушко, Савостиков, Пушных, Помазенко

МПК: C23C 14/32

Метки: ионно-плазменной, вакууме, подложек

...счет сил трения части нижней торцовой поверхности с рифленойповерхностью выступа приходят но вра -щательное движение вокруг собствен 140536115 20 25 30 35 40 50 ной оси и проходят через зону обработки ионным пучком как от верхнего,так и от бокового источника ионов.Таким обра зом, обработке поднергаются верхняя торцовая и боковая поверхности подложек 7. При необходимостина вращающиеся подложки 7 можно подать регулируемый (от 200 до 70000 В)эдектрический потенциал и, не снимаяего, переместить подложки 7 иэ однойпозиции обработки в другую.Во второй позиции 4 обработка осуществляется аналогичным образом (сосменой вида рабочего вещества - ионовв зависимости от требований техпроцесса).В позиции 3 обработки можно осуществить процесс...

Электродуговое устройство для нанесения покрытий в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 1781315

Опубликовано: 15.12.1992

Авторы: Сиваков, Сивакова

МПК: C23C 14/32

Метки: нанесения, электродуговое, вакууме, покрытий

...источник питания 1, плюс которого соединен с первыми выводами накопительных конденсаторов 2 и анодом 3, а мийус - со вторыми выводами накопительных конденсаторов 2 и катодом 4, на котором установлен М-секционный поджигающий электрод 5.15.Й. Плюс источника питания соединен с анодом тиристора Т 1, катод которого соединен с первыми выводами Й-дополнительных конденсаторов С.1.С.М, вторые выводы которых .соединены с соответствующими катодами И-дополйительнйх диодов Ч 1 Чи, аноды которых соединены между собой и с минусом источника питания 1 где параллельно тиристору включен диод в обратном направлении 01, апараллельно каждому дополнительному конденсатору С.1 С.И включено соответствующее сопротивление Я 1.1.Я 1 ю в котором каждая...

Электродуговой испаритель металлов

Загрузка...

Номер патента: 1466264

Опубликовано: 23.12.1992

Авторы: Эстерлис, Лемищенко, Кирсон, Гершович, Абдулов, Булат

МПК: C23C 14/32

Метки: испаритель, электродуговой, металлов

...анод, состоящий из двух электроизолированных секций 2, симметрично расположенных по обе стороны катода, Между катодом 1 и секциями 2 анода с двух сторон расположены электроизолированные экраны 3. Источники 4 постоянного тока отрицательным полюсом подключены к катоду 1 так, чтобы на его поверхности обеспечить поле одинакового потенциала, а положительным полюсом подключены через токопереключатель 5 к каждой секции анода. Поджиг дуги осуществляется с помощью поджигающего электрода б. который через токоограничивающее сопротивление 7 подключен к .положительному полюсу источника 4, Нанесение покрытия осуществляют на движущуюся перпендикулярно продольному катоду ленту 8, Отключение злектродугового испарителя осуществляется с помощью...

Устройство для нанесения тонких пленок в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 1809840

Опубликовано: 15.04.1993

Авторы: Франческо, Либерто

МПК: C23C 14/32

Метки: тонких, пленок, вакууме, нанесения

...и направляются к противоположной стенке под углом, ограниченным 30 градусами. Атомы доходят до противоположной стороны катода и возвращаются в обратном направлении, но при этом они не сталкиваются с другими частицами,При таком рикошете атомы с большей вероятностью сталкиваются с электронами газа, образующего плазму, и в свою очередь ионизируются. Между стенками катодов образуется большое количество ионов, которые под действием положительного заряда анода 5 устремляются к противоположному выходу и затем к подложкодержателю 8, на котором происходит осаждение требуемого покрытия,Для получения достаточной степени ионизации атомов и соответствующих ионов и для получения требуемой толщины тонкого слоя, расстояние между мишенями 1 и 3...

Способ нанесения покрытий на внутреннюю поверхность длинномерных изделий

Загрузка...

Номер патента: 1491037

Опубликовано: 30.04.1993

Авторы: Аубакиров, Абдуллин

МПК: C23C 14/32

Метки: нанесения, внутреннюю, поверхность, длинномерных, покрытий

...камере 6 в области индуктора 8 (фиг, 2).На втором этапе при достижении необходимой концентрации паров испаряемого материала в плазменном сгустке производится скачкообразная подача плазмообразующего газа в разрядную камеру 6, При этом плазменный сгусток 14 через иэделие 11 с большой скоростью истекает в вакуумную камеру 3. Высокая концентрация и большая скорость предотвращает обеднение паров по мере продвижения их вдоль оси изделия 11 (фиг. 3). Таким образом, реализуются условия, при которых параметры плазменного сгустка на входе и выходе изделия одинаковы, что обеспечивает равномерность покрытия по длине иэделия и однородность свойства. Для достижения необходимой толщины покрытия процесс циклически повторяется.Если скорость...

Способ нанесения несплошных износостойких покрытий

Загрузка...

Номер патента: 1812238

Опубликовано: 30.04.1993

Автор: Андреев

МПК: C23C 14/32

Метки: нанесения, покрытий, несплошных, износостойких

...пластины по ГОСТ 19042-80 10из твердого сплава Т 15 КС при нанесениипокрытия в виде ячеистой сетки из нитридатитана методом КИБ на установке "Булат 20" пластины под покрытием подготавливаются по вышеуказанной технологии, перед 15загрузкой в камеру на рабочие поверхностинаносятся затенения в виде ячеек из смесиуглерода (графитового порошка) и этиловогоспирта пастообразной консистенции, послечего пластины обрабатываются по традиционной технологии. После нанесения твердой сетки основы остатки графитовогопорошка удаляются, Затем полости сеткизаполняются пластическим металлом, например, хромом из известной технологии.Сравнительные испытания показализначительное повышение стойкости рабочих поверхностей, покрытых по данномуспособу,...

Способ обработки металлических изделий в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 1812239

Опубликовано: 30.04.1993

Авторы: Крылов, Коровкин, Перекатов, Киселев

МПК: C23C 14/32

Метки: металлических, вакууме

...образом,Обрабатываемые изделия (например, фасонные резцы, изготовленные из стали Р 6 М 5), очищенные от загрязнений, размещают на подложкодержателе, изолированном от корпуса вакуумной камеры и подключенном к отрицательному полюсу источника электропитания, вакуумная камера откачивается до давления 1,33 10-3 Па форвакуумным и диффузионным насосами, затем через систему гаэопитания в полый катод несамостоятельного дугового разряда, изготовленный из тугоплавкого материала, подают плазмообразующий газ, например аргон, а на изделия подают отрицательный потенциал относительно стенок вакуумной камеры. Полый катод несамостоятельного дугового разряда разогревают до температур термоэмиссии и зажигают несамостоятельный дуговой разряд с нерасходуемым...