Патенты с меткой «подложек»

Машина для центрированной накладки и окончательного крепления подошв и подложек на след обуви ниточно-клеевого и клеевого методов крепления, или предварительно центрированной накладки подошв на след рантовой обуви

Загрузка...

Номер патента: 140709

Опубликовано: 01.01.1961

Автор: Сергеев

МПК: A43D 25/06

Метки: предварительно, след, центрированной, крепления, окончательного, клеевого, подложек, обуви, рантовой, ниточно-клеевого, накладки, подошв, методов

...между собой рейкой 12 и шестерней 13. Пяточный упор 9 с рейкой 1 О соединен со штоком цилиндра 14. Штуцер 15 опирается на клин 16 и поджимает обувь к носочному упору 11. На машине установлены две прессующие подушки 17. В первоначальном положении при работе на машине рейки 3 разведены цилиндром 5 в крайнее положение, Носочный 11 и пяточный 9 упоры разведены в крайнее положение цилиндром 14, 1 олодка с заготовкой надевается на штуцер 15, затем колодка подается назад, и рант носка укладывается на носочный упор 11, Сведение боковых кожаных пяточных и носочных упоров осуществляется подачей воздуха в полости цилиндров 5, 14 при нажиме специальной педали (на чертеже не показано). При этом заготовка устанавливается в определенном положении...

Стройство для соединения металлических подложек магнитных пленок с металлическимоснованием

Загрузка...

Номер патента: 176719

Опубликовано: 01.01.1965

Авторы: Петрова, Эрглис, Субботин

МПК: G11C 11/14, G11C 5/04

Метки: подложек, соединения, пленок, магнитных, металлических, стройство, металлическимоснованием

...распо;10)кеииыми проводпиками упрдвлеии 51 обы:що производится точечной сваркой или пайкой. Г 1 ри подобном соедииеиии для поворота хдИтиой пленки отиосительпо проводииков уираьлепия приходится отпаивать подложку от основания, что здтрудияст процесс регулировки блоков пд)5 ти.В описываемом устройстве, с целью упрощеии 51 реГулирОИКИ по:10 жеиия и;епки отиосительно прово;Пиков уирдвгСии 1, подложка с иаессппой пд исе )1 гиитиой плсикой устдиовлеиг Ид круГлОЙ:От;гп:еско 1, идпримср медной, оооймс, рдзмещсииои в отверстии ос- ИОГапп 5 И СпгОжСИИОИ ПО ОКР ЖПОС 1 И ОХ РТИ- ком. Между оуртиком и поверхностью осиоваиия расположено плоское гофрированное металлическое кольцо. 2Описываемое устройство изображено па чертеже.Подлож(а 1 с идиесеппой...

Устройство для соединения металлических подложек магнитных пленок с металлическимоснованием

Загрузка...

Номер патента: 184527

Опубликовано: 01.01.1966

Авторы: Субботин, Левин, Эрглис

МПК: G11C 5/04

Метки: соединения, подложек, магнитных, металлическимоснованием, пленок, металлических

...устройство отличается тем, что, с целью обеспечения минимальных активного и индуктивного сопротивлений в зоне соединения, оно содержит манжету из металлической фольги, помещенную в отверстие металлического основания, к которой прикреп,чена подложка, и обойму с буртиком, зажи мающую манжету в отверстии основания и прижимающую ее буртиком к поверхности основания.На фиг. 1 изображено устройство с кругло" обоймой; на фиг, 2 - то же, с пряумогольно 1 например, квадратной) обоймой,К подложке 1 магнитной пленки 2метру подложки прекреплена манже металлической фольги, которая обой буртиком 5 прижимается к осно пример, к шасси). Оба варианта конструкции мо пользованы в измерительных уста 5 риант с прямоугольной обоймой устройствах...

Многоместный держатель подложек

Загрузка...

Номер патента: 184947

Опубликовано: 01.01.1966

Авторы: Чирков, Бина

МПК: H05K 13/04

Метки: держатель, подложек, многоместный

...микросхем.В предлагаемом держателе повышение надежности фиксации подложек достигнуто использованием в качестве фиксаторов штырей крестообразной формы, снабженных пазами, в которых размещены волнистые пружины.На чертеже изображен описываемый держатель,В основании 1 держателя выполнены отверстия под штыри 2 крестообразной формы. Штыри служат фиксаторами подложек 3 и снабжены пазами 4, где размещены волнистые пружины 5.Основание изготовляется из материала с хорошей теплопроводностью для поддержания одинаковой температуры в различных местах всех закрепленных подложек. Последние фиксируются на плоскости основания благодаря крестообразной форме штырей и 5 прижимаются к основанию волнистыми пружинами через круглые головки штырей. Пружины...

Полуавтоматическое устройство для разрезки на части диэлектрических подложек

Загрузка...

Номер патента: 194896

Опубликовано: 01.01.1967

Авторы: Суданов, Груздев

МПК: H05K 3/00

Метки: разрезки, части, полуавтоматическое, диэлектрических, подложек

...рычагов с подвижными сердечниками электромагнитов привода. Это позволяет повысить надежность работыустройства.На фиг. 1 изобранизма разлома подлма работы этого мехМеханизм разломного корпуса 1, котором центрирустся, апится вингами к плитеже не указан). Накреплено звено 2, кшарнирно прикрепл жена конструкция мехаожек; на фиг. 2 - схеанизма.а состоит из неподвижрый посадочным диаметчерез поясок фланца крсте полуавтомата (на черкорпусе неподвижно закоторому с двух сторон ены два подвижных звена 3. В подвижные звенья впрессованы рычаги 4 и 5, с помощью которых производится поворот звеньев на угол до 5. Тянущее усилие к рычагам 4 и 5 прикладывается с по мощью рычага б, соединенного с подвижнымсердечником электромагнита 7. Усигне...

Устройство для нагрева подложек

Загрузка...

Номер патента: 240059

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Андреев, Козлов, Романов

МПК: H05K 3/00

Метки: нагрева, подложек

...параллельно которому расположена по 1 дложка, от,гичающееся тем, что, с целью обеспечения постоянной и однородной температуры подложки, между основанием и подложкой помещен тонкий слой легкоплавкого материала. ы устройства для нагрева подложек ие нагреватель и металлическое осОднако они не обеспечивают пои однородной температуры подложОписываемое устройство отличается от известных тем, что в нем между основанием и подложкой помещен слой легкоплавкото материала.Это обеспечивает постоянную однородную температуру подложки.На чертеже изображена конструкция предлагаемого устройства.Подложка 1 прикреплена удголками 2 к массивному основанию 3, а между основанием и подложкой позгещен тонкий слой легкоплавкото материала 4 (например олова...

Устройство для изготовления проволочных подложек цилиндрических магнитных пленок

Загрузка...

Номер патента: 262831

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Нурмухамедов, Нестеров, Астахов

МПК: G11C 5/02, G11C 11/14

Метки: цилиндрических, магнитных, проволочных, пленок, подложек

...узел калиб ровки 3, имеющий две вращающиеся в раз ные стороны волоки 4, Волоки отцентрирова ны и закреплены в обоимах 5, которые приводятся во вращение от двигателей б с автономной регулировкой числа оборотов. После узла калибровки проволока не имеет оваль ности в сечении, поверхность получается безпродольных царапин и рисок, следы обработки имеют благоприятное (круговое) направление. Шероховатость поверхности изготовленной подложки, оцениваемой по высоте не ровностей, менее 0,1 мк, Обработанная проволока тщательно промывается в узле очистки 2 (в спирте) и поступает в печь 7, где проходит терморихтовку и упрочнение. Термообработка ведется в среде аргона, насыщенного 15 парами спирта. Выходящая из печи подложканаматывается на приемный...

Способ снятия тонкослойных покрытий со стеклянных подложек

Загрузка...

Номер патента: 278985

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Ахмадеев, Мирум, Караулова

МПК: C03C 23/00, C03C 15/00

Метки: снятия, покрытий, подложек, тонкослойных, стеклянных

...отличающийся тем, чтощелочночперекионый раствор с добавлением бериллия содержит 20 - 30% по весу перекиси водорода, 2 - 4% едкой щелочи и не менее 0,01 эквл ионов бериллия. п ИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Зависимое от авт. свидетельстваЗаявлено 11.11/,1969 ( 1326465/2 с присоединением заявкиПриоритет. Х. Ахмадеев, С. О. Мирумянц Изобретение относится к технологии изготовления тонкослойных оптических покрытий.Известен способ снятия тонкослойных покрытий со стеклянных подложек путем травления в азотной кислоте, содержащей ионы бериллня, алюминия и цинка.Основным недостатком этого способа является его низкая производительность.Цель изобретения - сокращение времени проведения всего комплекса технологического процесса снятия...

Устройство для закрепления подложек в вакуумных установках

Загрузка...

Номер патента: 316762

Опубликовано: 01.01.1971

Автор: Шепрут

МПК: C23C 14/24

Метки: подложек, вакуумных, закрепления, установках

...устройство отличается тем, что контактные элементы и термопара закреплены на одном основании и выполнены в верхней части в виде штырей, на которые опирается подложкодержатель. Это обеспечивает удобство смены подложкодержателя,На фиг. 1 представлено предлагаемое устройство, вид спереди; на фиг. 2 - то же, вид сбоку.Устройство состоит из подложкодержателя 1, контактных элементов 2 и термопары 3, Контактные элементы 2 и термопара 3 закреплены на одном основании 4 и выполнены в верхней части в виде штырей, на которые опирается подложкодержатель. Контактные элементы и термопара служат опорами для устанавливаемого на них подложкодержателя, в котором имеются два контактных эле мента 5, соединенных со свидетелем б, и углубление для...

Графитовый нагреватель подложек

Загрузка...

Номер патента: 347367

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Лерман, Комаров

МПК: C23C 14/50

Метки: подложек, графитовый, нагреватель

...поверхности пластины.Это достигается тем, что пластина соединена с электродами посредством металлическихпроводников, общая площадь поперечногосечения которых меньше площади поперечного сечения пластины.На чертеже представлен предлагаемый нагреватель, общий вид,Электроды 2 зажимают в проводов вакуумной камер щадей поперечных сечений водников 8 составляет 35 таллических проводников в та получения тока, необхо пластины 1 с учетом токов проводников при минима Торцы пластины 1 покрыва обеспечения жесткого соед водниками методом пайки ыым припоем. жателяношениины 1атериют издля нагреваих сдью вя ихотемпе ер О ласт.1. М ыбира димого ого н льном ют ме инеи высок мет изобретения вый нагревательастину и электродцелью обеспечениповерхности пласс...

Способ очистки подложек

Загрузка...

Номер патента: 358427

Опубликовано: 01.01.1972

Автор: Олеськив

МПК: C23C 14/02

Метки: подложек

...упрощает лроцеас очистки подложек. Это достигаеэся тем, что на очищаемую поверхность предварительно наатосят путам иопарения и конденсации в вакууме слой вещества, растворимого в воде,Опоооб заключается в следующем.Очистку, подложек перед нанесением покрытий:в вакууме осуществляют нанесением на поверииость слоя, вещества, растворимого в воде, с лоследующим удалением его при обрабитке поверхности водой. Слоей вещесэва, расэворимого в воде, наносят на,поверсность испарением и последующей конденсацией в ваку,уме. сое количесэво иопаряемотывают по формуле: где Р - навеска испаряемо Р - расстояние до подложк р - плотность иапаряемого а - угол наклона плоокос аправлению молекулярного д - толщина конденсируем Конденсат вместе с загрязнением...

Устройство для транспортировки и смены подложек в вакуумных установках

Загрузка...

Номер патента: 370279

Опубликовано: 01.01.1973

МПК: C23C 14/50

Метки: установках, подложек, транспортировки, вакуумных, смены

...1 б, Передние кромки захватов 18 имеют заходные фаски 17. Между магазином б и осью поворота диска-держателя 11 расположен в направляющих 18 передвижной кулачок 19, связанный с механическим вакуумным вводом 20. Кулачок 19 кинематически связан с поворотным упором 21, снабженным возвратной пру370279 10 ииг иг,.2 жиной 22, Для ограничения крайних положений имеются два неподвижных упора 23 и 24. На неподвижной стойке 25 закреплен стержень 26, заостренный конец которого направлен вертикально вверх и принимает обработанные кассеты.Для загрузки кассет 2 из магазина 6 в диск- держатель 11 кулачок 19 поднимают при помощи механического вакуумного ввода 20 до упора 24 и поворачивают диск-держатель 11 в направлении стрелки А. При этом ролики 16,...

Тепловой блок вакуумной установки для нагревания подложек в кассетах

Загрузка...

Номер патента: 371612

Опубликовано: 01.01.1973

МПК: G11C 5/02

Метки: подложек, тепловой, вакуумной, блок, кассетах, установки, нагревания

...и качество пленок. Кроме того, к сиикению производительности приводит и непроизводительная затрата времени на самопроизвольное Остывание теплового блока.Цель изобретения - улучшение качества подлокек.;:5 о достигается тем, что тепловой блок содс 1 кцт систему принудите чьцого Охлакдсцц 5 в виде трубок, встроенную в боковые стенси полого параллелепипеда.На чертеже покаазна конструктивная схема вакуумной установки с предлагаемым теп.5 овым блоком.Она состоит из вакуут 5 той камеры 1, испарптелей 2, теплового блока 3 с нагревателем 4, кассетами б для крепления подложек и системой б принудительного охлаждения в виде трубок, встроенной в боковые стенки, кассетоприсмццка 7, катушек 8 Гельмгольца и аппаратурь 9 дл 5 контроля параметров...

Нагреватель подложек для вакуумных установок

Загрузка...

Номер патента: 373330

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Вихров, Смолкин, Рето, Фадеев

МПК: C23C 14/50

Метки: установок, подложек, вакуумных, нагреватель

...охлаждения нагревателя в вакууме около 1 10 -мм рт. Ст, от 600до 50 С равно 10 - 12 мин без дополнительныхохлаждающих устройств,зс Рабочая поверхность предлагаемого дугоНАГРЕВАТЕЛЬ ПОДЛОЖ Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий.Известен нагреватель подложек для вакуумных установок, представляющий собой металлическую полосу. Однако рабочая поверхность такого нагревателя ограничена.Целью изобретения является увеличение рабочей поверхности нагревателя. Это достигается тем, что металлическая полоса выполнена в виде прямолинейных площадок с выступами между ними, расположенными по дуге с радиусом, равным расстоянию от их центров до испарителя.На чертеже показан предлагаемый нагреватель. Он представляет собой...

Устройство для ориентации “подложек

Загрузка...

Номер патента: 379065

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Владимиров, Горбаренко, Савин

МПК: G03F 9/00, H05K 3/00

Метки: подложек, ориентации

...для определения смещения реперсго знака 10 относительно оптической оси 19 По координате У. Сгнал микроскопа 12 характеризует угол певарота д Кремниевой пластны, так как оптическая ось 16 мцкроскола 11 совпадает с осью вращения верхнеплоокости стола 6. Сигналы фотоприемников 14, 15 и 18 постунают на усилители-,преооразователи 20, 21 и 22 соответственно. Последние Одинаксвы и состоят из усилителей переменных сигналсв 23, фазовых детекторов 24 и усилителей постояннопо тока 25. Усцлител- преобразовател;Предназначены для преооразоваия перехенного сигнала в постоянный, усиления его до;величины, Которая несбходн - ма для обеспечения нужного перемещения координатного стола 6 иополнительнымц механизмами 3 - 5.Иополнительные,механизмы 3 и...

Устройство для охлаждения гибких подложек

Загрузка...

Номер патента: 380750

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Вител, Кокле

МПК: C23C 14/50

Метки: подложек, гибких, охлаждения

...полость барабана, а ось смо:ттцрована подвиисно и стЯожена П 1 цспосоолением для фиксации заданного положения.На фиг. 1 представлено пред.1 агаехтое усто, разрез; на фиг. 2 - разрез по А - А . 1; ца фиг. 3 - вид по ствелке Б ца посоолеццех э для;рцксаццц заданного положснця. Вавябян 1 см "цти:;вяг,Пя Осях 2 ц закрепленных в корпусах 7 и 8 перемоточного устройства вакуумной установки. Ось 2 через корпус 8 и вакуумное уплотнение 9 имеет выход в атмосреру, где шсстерцей Р сооб- ЦсСТСЯ С ПРЦВОДОХ.Каналы связаны с соответствующими штуцерами 11 и 12 подвода ц отвода охладителя. О Трубки 8 и 4 отогнуты в цротцвсполокныестороны, причем, трубка 4 длиннее трубки 8 и почти касается стенки оярябаца. Со стороны ЯтхОсферы Ось рычаГом 18 и закиВОм 14...

Элемент для размещения подложек в горизонтальной камере

Загрузка...

Номер патента: 444276

Опубликовано: 25.09.1974

Авторы: Борзаков, Панкин, Чернышов, Черников

МПК: H01L 7/68

Метки: подложек, размещения, элемент, камере, горизонтальной

...газового потока. ны скосами по боковым ст ны разной ширины,А, М. Черников и В, В, Че На чертеже схематически изображен предлагаемый элемент, общий вид.Элемент включает в себя основание 1, накотором смонтированы рассекатель 2 и под ставки 3 и 4, имеющие скосы 5 на боковыхсторонах для более надежного фиксирования уложенных на них съемных боковых стенок 6.На внешней поверхности стенок 6 имеются штыри 7 для удержания полупроводнгп(овых 10 пластин 8. Для загрузки в печь и выгрузки изнее на основании 1 элемента имеется отверстие 9.Подготовленные для обработки пластины 8укладывают на поверхность боковых стенок 6, 15 которые, в свою очередь, укладывают на боковые стороны подставок 3 и 4. На поверхности боковых стенок 6 пластины 8...

Графитовый нагреватель подложек

Загрузка...

Номер патента: 444834

Опубликовано: 30.09.1974

Авторы: Седых, Сидоров

МПК: C23C 13/12

Метки: графитовый, нагреватель, подложек

...практически всей площади нагревателя.Этопозволяет существенно повыситьвроизводительность вакуумной устаноаки; Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано.для нагревания подложек микросхем.Известные графитовые нагреватели подложек, выполненные в виде пластины, электрически соединенной с токопроводами, имеют изотермическую зону, площадь которой существенно меньше общей площади нагревателя, и, следовательно, не позволяет с мшксимальной эффективностью использовать вакуумные установки,Цель изобретения - расширение изотериической зоны нагревателя.Это достигается тем, что в теле пластины на участках, прилегаацих к токопроводам, выйолнены отверстия, поперечное сечение и количество которых выбраны в...

Устройство для транспортирования и ориентирования круглых подложек

Загрузка...

Номер патента: 446921

Опубликовано: 15.10.1974

Авторы: Точицкий, Белицкий

МПК: H01L 7/68

Метки: подложек, транспортирования, круглых, ориентирования

...подложки.20 На чертеже показан общий видпредлагаемого устройства. Устройство содержит основание 1; пневмотранспотер 2 с бортами 3; ориентирующии механизм, содержащии кора 5 опус 4 с прикреплейными к нему бортом 5 и базовым жестким упором 6, подвижную базовую опору 7, прик- , репленную к корпусу 4 через, пружинный шарнир 8 и вибропривод 9.Устройство работает слещющим 5 образом.Приподаче воздуха к пневмотранспортеру 2 и корпусу 4 ориентирующего механизма подложка, подан ная на пневмогранспортер, движется 1 о на воздушной подушке по йаправлению к ориентирующему механизму. Попадая на ориентирующий механизм, сопла 10 которого расположены так, что выходящий из них воздух прижи= мает подложку к подвижной базовой опоре 7, упору 6 и создает...

Инсектицидная композиция для пропитки твердых подложек

Загрузка...

Номер патента: 446959

Опубликовано: 15.10.1974

Авторы: Конфино, Гедар, Мулен

МПК: A01N 17/08

Метки: подложек, пропитки, композиция, инсектицидная, твердых

...22 29 35 40 45 58 58 60 65 ДВДФ к количеству испарившегося превышает 90%.Согласно изобретению используют композиции, включающие дихлорвинилдиметилфосфат, в случае необходимости обычно применяемые растворители и 5 - 50% по весу по отношению к ДВДФ ацеталя формулы где Я - алкил, содержащий от 7 до 11 атомов углерода, или фенил, замещенный, в случае необходимости, низшим алкилом;А - алкильная линейная или разветвленная цепь, содержащая от 2 до 5 атомов углерода, в случае необходимости, замещенная одной или несколькими гидроксильными группами.А может, например, представлять следующие цепи;- СН, - СН, - , - СН, - СН, - СН, - ; - СН, - СН - СН, - ; - СН, - СН -ОН СН,ОНП р и м е р. В опытах в качестве ацеталя использовали...

Устройство для финишной очистки подложек

Загрузка...

Номер патента: 449399

Опубликовано: 05.11.1974

Авторы: Гойденко, Достанко, Кулагин, Пикуль

МПК: H01L 7/68

Метки: подложек, финишной

...недостатки устранены благодаря тому, что узел крепления подложек выполнен в теле волновода в виде плоского ромба, углы которого срезаны плоскостями, параллельными оси волновода, и снабжен регулируемым упором со стороны, противоположной концентратору.На чертеже схематично показано предложенное устройство и узел крепления подложки.Устройство содержит источник электронов, состоящий из термоэмиссионного катода 1, подвижной заслонки 2 для задержки или пропускания потока электронов на подложку 3 и высоковольтного блока питания 4, и ультразвуковую колебательную систему, состоящую из магнитострикционного преобразователя 5, концентратора 6, волновода 7, в теле которого ыполнен узел крепления 8 подложки с подижным упором 9,Перед нанесением...

Устройство для совмещения подложек микросхем

Загрузка...

Номер патента: 451220

Опубликовано: 25.11.1974

Авторы: Фунтиков, Романов

МПК: H05K 7/00

Метки: совмещения, подложек, микросхем

...повышение точности совмещения подложек.Для этого цилиндр жестко закреплен на основании установки, а полусфера снабжена вакуумным обратным клапаном и закреплена в верхней сферической части плунжера.Изобретение пояснено чертежами.На фиг. 1 приведена схема устройства; на фиг, 2 - конструкция узла совмещения.Устройство для совмещения подложек микросхем содержит стол 1, являющийся1,лы325, 26 ориентируют подложку по штифтал27 (см. фиг. 2).,Устройство работает следующим образом,Подложку 8 с нанесенным светочувствительным споем укладывают на полусферу 11 пневматическим захватом 18. Привключении пневмоклапанов 19, 20 достигаются прижим шаблона и образование вакуума в пространстве около полусферы 11.Переключением пневмоклапана. 20 на...

Устройство для транспортировки подложек микросхем

Загрузка...

Номер патента: 456390

Опубликовано: 05.01.1975

Авторы: Воскобойников, Гаврилов, Матевосов

МПК: H05K 13/02

Метки: микросхем, подложек, транспортировки

...со шлюзовой загрузкой, содержащие транспортирующий блок в виде расположенных друг за другом спутников и приводной механизм. 1Однако в известных устройствах возможно заклинивание спутников, повышение сопротивления перемещающего их толкателя и расходуется много электроэнергии.Цель изобретения - повышение надежно сти работы устройства.Для этого каждый спутник снабжен расположенными на его противоположных торцовых поверхностях по ходу транспортировки пазами и захватами, служащими для сочленения спутников в единую транспортирующую цепочку, а приводной механизм размещен на выходе транспортирующей цепочки и кинематически связан с расположенным на выходе крайним спутником.2На фиг. 1 изображено описываемое устройство, на фиг. 2 -...

Устройство для текстурирования подложек из высокополимерных материалов

Загрузка...

Номер патента: 467526

Опубликовано: 15.04.1975

Авторы: Адольф, Михаэль, Бернд

МПК: D06C 29/00

Метки: текстурирования, высокополимерных, подложек

...ускорителя элсктрОНО параллельно друг другу. (,роме того, для измснсии 51 няирд Влсн 51;Ви)ксни 51 иодгожки ус Г- ройство тзкжс сиабжеи 0 нс)ирд)л 5 Огннм ролКями см 01 Гировянными ас;к;ч и)10;иьми роликами и гОлотнами мег 1,лИеско Лсить.На фиг. 1 прсдстагленд схема устройства; ид (1)иг, 2 - - схиа рдсгОЛО)кения элеменов устройства для изменения направления движс- НИЯ ПОДЛОЖКИ.Устройство содержит корректор 1 ускорителя электронов, металлическую лен гу 2 с вчонтировднными шаблонами, привооные ролики 3, напра)ляОННе ролики 4 и 5. Ц 1 дон)н 1, 13)Оптированные в ленту, нредсгдвляот собой фигурные проемы по форме,нсооко:и)Ой для текстурирования,Рдоотяс г чстройство слсдм 10 щи) Ооразоч11(сли)к .д 6 поступст ид ролик 4, поворачивается...

Нагреватель для подложек

Загрузка...

Номер патента: 490273

Опубликовано: 30.10.1975

Авторы: Седых, Строганов, Сидиров

МПК: H05B 3/14

Метки: нагреватель, подложек

...рабочей зоны нагревателя при различных температурах нагрева.Это достигается тем, что, в пластине на участках, расположенных между рабочей зоной и токовводами, выполнены отверстия, в которых размещены пробки из токопроводящего материала с возможностью их осевого перемещения.Описываемое устройство изображено на чертеже и состоит из графитовой пластины 1, соединенной торцами с токовводами 2, и пробок 3, ввернутых в резьбовые отверстия, расположенные между рабочей зоной и токовводами.Настройка нагревателя на рабочую т ратуру обеспечивается изменением глу размещения пробок в отверстиях. При полностью закрытых отверстиях погонное сопротивление на любом участке пластины будет одинаковым. С уменьшением глубины завин чивания пробок...

Устройство для непрерывного удаления фоторезиста с подложек с использованием озон-кислородной смеси

Загрузка...

Номер патента: 494799

Опубликовано: 05.12.1975

Авторы: Кажаткин, Иванов, Соколов, Солянов, Суходаев, Неустроев, Красов, Захаров

МПК: H01L 7/00

Метки: непрерывного, использованием, озон-кислородной, смеси, удаления, подложек, фоторезиста

...непосредственно под несущей лентой транспортера.На фнг, 1 показано предлагаемое устройство, общий вид, на фиг. 2 - то же, разрез; на фнг. 3 - форсунка.Устройство представляет собой транспортер с несущей лентой 1, на которой размещены слоедмет пзоб ния ого удаления фоользованием озонщее транспортер с , снабженный ран нагревательны(72) Авторыизобретения С. А, Неустроев, Е.В. Г. Солянов, В. А(7 Московск подложки 2 (лента может быть изготовлена из проволочных ветвей, соединенных одна с другой стяжками). Несущая ветвь транспортера проходит через рабочую камеру 3, в ко торой укреплены форсунки 4. Камера снабжена выхлопным патрубком 5. Под несущей лентой транспортера помещен нагреватель 6 со спиралью 7. Ленту 1 несут направляющий 8 иведущий...

Способ удаления покрытия споверхности подложек

Загрузка...

Номер патента: 509550

Опубликовано: 05.04.1976

Авторы: Денис, Таурайтис, Кривенко, Шнейдман

МПК: C03C 23/00

Метки: споверхности, покрытия, подложек, удаления

...СССРпо делам изобретений и открытиАМосква, 113035, Раушскан наб 4 Подписное Филиал ППП "Патент, г, Ужгород, ул. Проектная, 4 11 от 1 к.бность в обновлении раствора моет появиться лишь после удаления покры 1 ия, например со 100 цилиндров,Полированная поверхность подложки пос ле снятия покрытия. остается неповрежденной и обезжиренной, так как атилендиамин в любом соотношении смешивается с водой и с поверхности подложки при поомывке ее легко удаляются следы его раствора. Формула изобретения Способ удаления покрытия с поверхностиподложек путем растворения его в реагенте, о т л н ч а ю щ и й с я тем, что, с целью 5сохранения поверхности подложек неповрежденными при растворении покрытия из халыкогенидных. стекол, в качестве реагента...

Устройство для ориентации подложек при изготовлении микросхем

Загрузка...

Номер патента: 541305

Опубликовано: 30.12.1976

Авторы: Петров, Крючков

МПК: H01L 21/77, H05K 3/00

Метки: изготовлении, подложек, микросхем, ориентации

...рамки, упоров 8 и 9 и упругих элементов 10 - 21.При подаче электрического напряжения на 10 пьезоэлектрический элемент 1 происходит егорастяжение (сжатие), и так как он соединен с упором 8 и наружной рамкой 7, то последняя смещается по координате Х за счет деформации упругих элементов 18 - 21, и одно временно смещается плита 5 ивнутренняя рамка 6 в том же направлении. При подаче электрического напряжения на пьезоэлектрический элемент 2 происходит смещение рамки б ,по координате У за счет деформации упругих О элементов 10 - 13, и одновременно смещаетсяплита 5 в том же направлении, а рамка 7 выполняет функции упора для рамки 6, При подаче электрического напряжения на пьезоэлектрические элементы 3 и 4 создается вра щающийся момент, и плита 5...

Способ изготовления подложек для цилиндрических магнитных пленок

Загрузка...

Номер патента: 582302

Опубликовано: 30.11.1977

Авторы: Нурмухамедов, Салтыков, Игнатьев

МПК: C21D 1/78

Метки: цилиндрических, подложек, пленок, магнитных

...раствор, длякоторого температура начала рекристаллизац гп зна штсльно выше, чем для чистой мсдп,и закаливают в воде.Формула изобретения Составитель Р, Клыкова Корректор Л, Брахнина Редактор Г. Лановая Техред И. Рыбкина Заказ 2592/12 Изд.952 Тираж 693 НПО Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5Подписное Типография, пр. Сапунова, 2 Проволоку, предназначенную для изготовления подложки, подвергают очистке. Затем на нее наносят слои меди толщиной 1 - 5 мкм, обеспечивая ее прочное сцепление (адгезию) с металлом проволоки, При необходимости можно привести уплотнение этого слоя путем, например, волочения проволоки с нанесенным на нее слоем чистого металла через...

Способ получения беспористого покрытия корундовых подложек

Загрузка...

Номер патента: 363433

Опубликовано: 05.08.1978

Авторы: Кириллова, Михайлова, Быстрова

МПК: H05K 1/02

Метки: подложек, беспористого, корундовых, покрытия

...оС в течение 10-15 мин, далее ее кристаллиэируют выдерживая в течение 1-2 ч1250-1300 оС ооцтаждая со скоростьео70 град/ч. Последующее охлаждение 25 до комнатной температуры производитсясо скоростью 30-50 град/ч. Толщина нанесенного слоя в зависимости от микрорельефа подложки может находиться впределах 10-60 мкм. Это не изменяетэлектрические свойства и теплопроводность подложек и оно достаточно для заппавпения пор и дпя выравнивания микрорельефа подложек. Дополнительной механической обработкой, если позволяет микрорельеф подложек, получают беспористыйслой толщиной 1-5 мкм.Рабочая температура покрытия составляет 1250 о С,Корундовьте подложки, имеющие послемеханической обработки перед глаэуроваФнием чистоту поверхности не ниже р 6и...